本发明公开了一种设计特征引导模板的方法，所述特征引导模板用于引导嵌段共聚物的自组装以在用于光刻的设计布局中形成至少两个特征，所述特征引导模板包括通过瓶颈部连接的至少两个部分，所述方法包括：至少基于所述特征引导模板的几何结构的函数确定所述...

本发明公开了一种光谱纯度滤光片，所述光谱纯度滤光片包括石墨烯。

本发明公开了制造衬底保持器的方法。用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。该平坦化层提供平滑表面，用于形成薄膜叠层以形成电子部件。该薄膜叠层包括可选的隔离层、用于形成电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件的金属层以及顶部隔...

描述一种用于控制多体系统的同步定位的控制装置，控制装置包括：输入，用于接收表示多体系统的第一主体(MT)的期望位置与第一主体的测量位置之间的差异的第一误差信号(ers)和表示多体系统的第二主体(WT)的期望位置与第二主体的测量位置之间的...

一种辐射源设备，包括：容器，其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁，其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发气体介质之后生成；和热负荷施加器，其适于将热负荷应用到容器的壁的至少一部分以减少壁中的应力。

一种物体定位系统，包括：物体(P)；测量系统(MS)，用于测量物体的位置(APOS)；致动器系统(AS)，用于定位物体；控制系统(CU、OBS)，所述控制系统被配置用于驱动致动器系统，其中测量系统的每个传感器具有相关联的在物体上的测量区...

一种辐射源设备，包括：用于利用气体介质加压的容器(400)，其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射(50)激发所述气体介质之后被生成，其中容器基本上可操作(66，67)以在等离子体发射辐射作为输出辐射离开容器之前从等离子体发射...

一种用于光刻中的检查设备被披露。其包括用于衬底的支撑件，所述支撑件承载多个量测目标；光学系统，用于在预定照射条件下照射目标并且用于检测在所述照射条件下由目标衍射的辐射的预定部分；处理器，所述处理器布置成用来从衍射辐射的所述检测部分计算出...

一种散射仪用于测量衬底上结构的属性。目标光栅包括在第一方向上在距离gP之上周期性地设置的线条，每个线条单独地在第二方向上延伸距离gL。采用辐射光斑照射光栅，并且检测衍射辐射和用于计算CD、侧壁角度等测量值。光斑限定对于光栅定制的视场以使...

一种计算结构的电磁散射性质的方法，结构包括不同性质的材料并且结构在至少一个横向方向上是周期性的并在垂直方向上延伸，包括：通过针对在至少一个横向方向上的多个模式中的每个相应模式执行在垂直方向上的伪谱多项式(切比雪夫)展开乘以对于多个模式中...

一种用于提供电子束的注入器装置。注入器装置包括用于提供电子束团的第一注入器和用于提供电子束团的第二注入器。注入器装置可操作为以电子束包括仅由第一注入器提供的电子束团的第一模式和电子束包括仅由第二注入器提供的电子束团的第二模式操作。

一种用于制造表膜的设备，设备包括：用于受应力的膜层的施加应力的组件；以及用于支撑衬底的衬底支撑件，施加应力的组件和衬底制作能够相对移动以便使得当膜层被施加应力时衬底与膜层接触。

在光刻处理中，诸如半导体晶片的产品单元经历光刻图案化操作和化学和物理处理操作。在处理的执行过程中在各阶段形成对准数据或其它测量以获得对象数据，所述对象数据代表在跨每一个晶片空间分布的点处测量的位置偏差或其它参数。该对象数据被用于通过执行...

在散射测量中，在迭代过程中使用包括正则化参数的评价函数来寻找用于测量的目标的散射性质的值。针对每个测量目标并且在迭代过程的每次迭代中获得正则化参数的最优值。可以使用多种方法来寻找正则化参数的值，方法包括偏差原理、卡方分布方法以及包括评价...

本发明提供一种对由光学系统形成的光学图像进行校正的方法，所述方法包括：获得指示所述光学系统的整个光瞳平面上的、对于在光学系统的像平面中的每个空间位置的所述光学系统的偏振相关特性的图，将指示所述光学系统的偏振相关特性的图与输入辐射束的强度...

公开了用于创建并利用来自激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)光系统中的单一个激光源的双激光幕帘以控制微滴释放和/或辐照的方法和装置。包括一个或多个传感器的第一组传感器在靶材料的微滴通过一个或多个幕帘时对它们进行检测以使得能够调节微...

一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。

一种光谱散射仪检测从目标光栅上的照射光斑衍射的零阶或高阶辐射。设备形成并且检测了零阶(反射)辐射的光谱，并且单独地形成并检测高阶衍射辐射的光谱。使用对称相位光栅形成每个光谱，以便于形成并且检测对称光谱对。成对的光谱可以平均以获得具有减小...

在由导管的第一端部限定的第一开口处接收与通过将靶混合物转换成发射出EUV光的等离子体而产生的碎屑结合的自由基，导管包括使自由基通过的材料，并且导管包括远离第一开口延伸并且限定出至少一个其他开口的侧壁，至少一个其他开口被定位成使自由基朝向...

本发明公开了一种辐射源，所述辐射源包括：喷嘴，所述喷嘴被配置用于沿着液滴路径将燃料液滴束流朝向等离子体形成位置引导，并且所述辐射源被配置用于接收具有高斯强度分布、具有预定波长和沿预定轨迹传播的高斯辐射束，所述辐射源被进一步配置用于将辐射...