【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备、衬底支撑系统、器件制造方法以及控制程序相关申请的交叉引用本申请要求于2012年11月27日递交的美国临时申请61/730,428的权益,并且其通过引用全文并入本文。
本专利技术涉及一种光刻设备、衬底支撑系统、器件制造方法以及控制程序。
技术介绍
光刻设备是一种将期望的图案应用到衬底上,通常是衬底的目标部分上的机器。例如,可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下,可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成将要在所述IC的单层上形成的电路图案。这种图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分管芯、一个或若干个管芯)上。通常,图案转移是通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常,单个衬底将包含被连续图案化的相邻的目标部分的网络。已知的光刻设备包括:所谓的步进机,在步进机中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分;和所谓的扫描机,在扫描机中通过沿给定方向(“扫描”方向)用辐射束扫描图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描衬底,而照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移至衬底。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸没到具有相对高折射率的液体(例如水)中,以便充满投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在一实施例中,液体是蒸馏水,但是可以使用其他液体。本专利技术的实施例将参考液体进行描述。然而,其它流体也可能是适合的,尤其是润湿性流体、不能压缩的流体和/或具有比空气高的折射率的流体,期望地,其为具有比水高的折射率的流体。除气体之外的流体尤其是希望的。这样能够实 ...
【技术保护点】
一种光刻设备,包括:被驱动的物体,所述被驱动的物体具有柔顺动态特性;多个致动器,所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上,其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的;控制系统,所述控制系统包括变换矩阵,所述变换矩阵被配置为响应于设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号,其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.11.27 US 61/730,4281.一种光刻设备,包括:被驱动的物体,所述被驱动的物体具有柔顺动态特性,所述柔顺动态特性是被驱动的物体的低频非刚体行为;多个致动器,所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上,其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的;控制系统,所述控制系统包括变换矩阵,所述变换矩阵被配置为响应于设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号,其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。2.如权利要求1所述的光刻设备,其中所述多个致动器在两个或更多个致动器自由度上是超定的,并且所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体的在数量上等于超定的致动器自由度的数量的自由度上的柔顺动态特性。3.如权利要求1所述的光刻设备,其中所述多个致动器包括多于六个的致动器,所述多于六个的致动器被配置和布置为在六个自由度上定位被驱动的物体。4.如权利要求1所述的光刻设备,其中被驱动的物体具有第一共振模态,所述第一共振模态为在被驱动的物体的所有共振模态中具有最低频率的共振模态,并且所述变换矩阵被配置为使得在低于第一共振模态的频率的一半频率的情况下所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。5.如权利要求1所述的光刻设备,其中所述变换矩阵被配置为使得在低于预定频率的频率的情况下所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。6.如权利要求1-5中任一项所述的光刻设备,其中所述变换矩阵进一步被配置为执行被驱动的物体的对角化的刚体行为。7.一种光刻设备,包括:被驱动的物体,所述被驱动的物体具有柔顺动态特性,所述柔顺动态特性是被驱动的物体的低频非刚体行为;多个致动器,所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上;多个传感器,每个传感器被配置为提供指示被驱动的物体的位置或位移的传感器信号,其中所述多个传感器在传感器自由度上是超定的;变换矩阵,所述变换矩阵被配置为变换所述传感器信号,以便不会看到被驱动的物体的在至少一个自由度上的柔顺动态特性的效果,以及控制系统,所述控制系统被配置为响应于设定点和变换的传感器信号产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号。8.如权利要求7所述的光刻设备,其中所述多个传感器在两个或更多个传感器自由度上是超定的,并且所述变换矩阵被配置为使得在所述变换的传感器信号中不会看到被驱动的物体的、在其数量等于超定的传感器自由度的数量的自由度上的柔顺动态特性。9.如权利要求7所述的光刻设备...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·M·J·范德瓦尔,W·H·T·M·安格内恩特,R·I·卡米迪,K·曼索乌里,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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