本发明公开了一种用于EUV掩模版的表膜、多层反射镜和光刻设备，该光刻设备包括：辐射源，配置成产生辐射束；和支撑件，配置成支撑图案形成装置。所述图案形成装置配置成将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束。腔定位在辐射源和图案形成装置之间。所述...

本发明公开一种图形外延模板，用以对准自组装嵌段聚合物，所述嵌段聚合物适于自组装为具有平行于第一轴线延伸、沿正交的第二轴线相互间隔开并且通过连续第二区域或域分开的不连续第一区域或域的平行行的二维阵列。所述图形外延模板具有基本上平行的第一和...

一种光刻图案形成装置变形监测设备（38），包括：辐射源（40）、成像装置（42）以及处理器（50）。辐射源配置成将具有预定直径的多个辐射束(41)朝向光刻图案形成装置(MA)引导使得它们被图案形成装置反射。成像检测器配置成在多个辐射束被...

公开了用于确定光刻投影设备的聚焦位置校正量的方法和相关设备。所述方法包括：在测试衬底上曝光多个全局校正场，每个全局校正场包括多个全局校正标记，且每个校正标记被用在其上的倾斜的聚焦位置偏置曝光；测量多个全局校正标记中的每个全局校正标记的依...

一种辐射源（60），适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括：喷嘴，配置成沿轨迹（64）朝向等离子体形成位置（66）引导燃料液滴（62）的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射（68）使得第一辐射量辐射入射到位于等离子体形成位置的燃料...

提供用于促进通过用于光刻设备中的辐射源液滴束流生成装置生成的束流中的燃料液滴的聚结的方法和设备。描述了多个示例，其中调制电压源被应用于发射器，使得液滴的电特性可以被控制。这导致束流中的液滴的加速和减速，引起它们合并和促进聚结。

一种用于通过LPP（激光产生等离子体）或（双激光等离子体）由熔融金属燃料液滴束流产生EUV的辐射源，具有：燃料液滴生成装置，配置成提供燃料液滴束流；和至少一个激光器，配置成蒸发所述燃料液滴中的至少一些，由此产生辐射。所述燃料液滴生成装置...

一种光刻设备被提供和配置成将图案化的辐射束投影到衬底（W）上。所述设备包括测量系统，用于提供与衬底上抗蚀剂层（56）的厚度相关的测量数据，和控制器（54），用于控制光刻设备的操作使得将要被投影到衬底上的图案化的辐射束中的辐射强度水平基于...

辐射源，具有：喷嘴，喷嘴配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置以在使用中生成用于生成辐射的等离子体。喷嘴具有内表面，所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染...

辐射源，包括：喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴（400）的束流；和激光器，配置成引导激光辐射至等离子体形成位置以在等离子体形成位置将燃料液滴转化为等离子体。激光器包括放大器（310、320）和光学元件（500），该光...

一种目标结构，包括一个或更多个周期性结构，由光刻过程形成在衬底上。目标结构的图像在以照射束照射目标结构时被检测，该图像使用非零级衍射辐射的第一部分而排除零级衍射辐射而形成。从图像中的至少一个感兴趣的区域提取的强度值用于确定周期性结构的性...

用于通过LPP（激光产生等离子体）或DLP（双激光等离子体）从熔融的燃料液滴的束流产生EUV的辐射源具有布置成提供燃料(314)液滴的束流的燃料液滴产生装置和配置成汽化燃料的所述液滴中的至少一些以产生辐射的至少一个激光器。燃料液滴产生装...

本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距...

一种光刻过程包括在用于EUV光刻过程的抗蚀剂材料中使用含硅聚合物和/或包括选自由下列元素构成的组中的至少一个元素的化合物：Ta、W、Re、Os、Ir、Ni、Cu和Zn。在该过程中使用的EUV光波长小于11nm，例如6.5-6.9nm。本...

在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括：调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。

一种清洁系统和衬底处理工具，所述清洁系统包括清洁单元，所述清洁单元被构造和布置以在衬底保持件的支撑表面上产生基团，以从其上移除污染物，其中，所述清洁系统处在氢气气体环境中，其中所述清洁单元包括：外壳，所述外壳包括与真空单元相连通的出口和...

本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。

一种光刻设备，具有多个独立可控辐射源单元，每个独立可控辐射源单元提供图案化的辐射束的一部分；控制系统，配置成监测每一个独立可控辐射源单元的性能参数；和更换机构，配置成在控制系统确定判断条件已经基于监测的性能参数被满足时以替代单元更换独立...

本发明提供一种衬底处理设备和器件制造方法，该衬底处理设备包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底...