对准传感器、光刻设备和对准方法技术

公开了一种对准传感器及相关方法，包括诸如白光源之类的照明源，具有可操作成在取决于波长的角度下的衍射高阶辐射的照明光栅；以及用于将衍射的辐射从至少两个相反方向递送至对准光栅上的照明光学器件。针对入射在对准光栅上的每个分量波长、以及针对每个方向，从两个相对方向的一个入射的辐射的第零阶衍射重叠了从另一方向入射的辐射的高阶衍射。这采用重叠的第零阶衍射光学放大了高阶衍射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】对准传感器、光刻设备和对准方法相关申请的交叉引用本申请要求享有2013年5月7日提交的美国临时申请61/820,568的优先权，并且该申请在此通过引用整体并入本文。
本专利技术涉及一种对准传感器和对准方法，诸如在光刻工艺中使用的对准传感器和对准方法。
技术介绍
光刻设备是施加所需图案至衬底上、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以例如用于集成电路(IC)的制造中。在该情形中，备选地称作掩模或刻线板的图案化装置可以用于产生将要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)上。图案的转移通常经由对提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层成像而完成。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，其中通过一次曝光整个图案至目标部分上而照射每个目标部分，以及所谓的扫描机，其中通过沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案通过辐射束同时平行于或反平行于该方向扫描衬底而照射每个目标部分。也能够通过将图案压印至衬底上而将图案从图案化装置转移至衬底。为了控制光刻工艺以在衬底上精确地放置器件特征，对准标记本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对准传感器，包括：至少一个照明源，包括可操作成以取决于波长的角度衍射高阶辐射的衍射照明结构；以及照明光学器件，可操作成从相对方位角方向的至少一个配对将来自所述至少一个照明源的所述衍射的照明辐射递送至衍射对准结构上的点上，其中所述对准传感器可操作成使得在由所述衍射对准结构将所述照明辐射衍射之后，并且独立于所述照明辐射中所包括的波长：从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射的辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射的辐射的高阶衍射重叠；以及从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射的辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射的辐射的高阶衍射重叠；由此采用重叠的第...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.05.07 US 61/820,5681.一种对准传感器，包括：至少一个照明源，包括可操作成以取决于波长的角度衍射高阶辐射的衍射照明结构；以及照明光学器件，可操作成从相对方位角方向的至少一个配对将来自所述至少一个照明源的所述衍射的照明辐射递送至衍射对准结构上的点上，其中所述对准传感器可操作成使得在由所述衍射对准结构将所述衍射照明辐射的衍射之后，并且独立于所述衍射照明辐射中所包括的波长：从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的高阶衍射重叠；以及从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明的辐射的高阶衍射重叠；由此采用重叠的第零阶光学放大所述高阶衍射。2.根据权利要求1所述的对准传感器，其中，所述照明源是多波长照明源，并且所述对准传感器可操作成针对入射在所述衍射对准结构上的每个分量波长采用重叠的第零阶光学放大所述高阶衍射。3.根据权利要求1或2所述的对准传感器，其中，从相对方位角方向的每个配对中的第一方向和第二方向入射在所述衍射对准结构上的辐射是相干的。4.根据先前权利要求中任一项所述的对准传感器，其中，所述衍射照明结构包括空间光调制器。5.根据权利要求4所述的对准传感器，其中，所述空间光调制器可操作成调制其所调制光的幅度、相位和/或偏振。6.根据权利要求4或5所述的对准传感器，其中，所述空间光调制器可操作成将所需衍射照明结构图案网格快照至具有由所述空间光调制器的单独的可切换元件所限定的不可分割网格元件的网格。7.根据权利要求4至6中任一项所述的对准传感器，包括参考支路，所述参考支路可操作成测量所述空间光调制器中的漂移。8.根据权利要求7所述的对准传感器，其中，所述参考支路包括干涉仪，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·J·登博夫，S·马蒂杰森，P·蒂内曼斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL