物体保持器和光刻设备制造技术

一种载物台(WT)用于支撑物体(W)，载物台具有支撑本体(100)，用于保持物体的物体保持器(30)，邻近物体保持器边缘的开口(5)，以及经由通路(14)与开口流体连通的通道(16)，其中通道由不同于限定通路的第二材料的第一材料来限定。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】物体保持器和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求享有2012年5月29日提交的第61/652,602号美国临时申请的优先权、以及2012年10月3日提交的第61/744,740号美国临时申请的优先权，并且通过整体引用将其并入本文。
本专利技术涉及一种物体保持器、一种光刻设备以及一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是施加所需图案至衬底之上(通常至衬底的目标部分之上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形中，备选地称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生将要形成在IC的各个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)之上。图案的转移通常经由成像至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层之上。通常，单个衬底将包含相继图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，其中通过将整个图案一次曝光至目标部分之上而辐射每个目标部分，以及所谓的扫描机，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案而同时平行于或反平行于该方向扫描衬底来辐射每个目标部分。也可能通过压印图案至衬底之上而将图案从图案形成装置转移至衬底。已经提出了在光刻投影设备中将衬底浸入具有相对高折射率的液体(例如水)中，以便于填充投影系统的最终元件与衬底之间的空间。在实施例中，液体是蒸馏水，但是可以使用其他液体。本专利技术的实施例将参照液体进行描述。然而，另外的流体可以是合适的，特别是润湿流体，不可压缩的流体和/或具有比空气更高折射率的流体，希望的是比水更高的折射率。排除了气体的流体是特别希望得到的。该要点在于使得能够成像更细微特征，因为曝光辐射将在液体中具有更短波长。(液体的效应也可以视作增大了系统的有效数值孔径(NA)并且也增大了焦点的深度。)已经提出了其他沉浸液体，包括其中悬浮有固体颗粒(例如石英)的水，或者具有纳米颗粒悬浮物的液体(例如具有至多10nm的最大尺寸的颗粒)。悬浮颗粒可以或者可以不与它们悬浮在其中的液体具有类似或相同的折射率。可能合适的其他液体包括烃，诸如芳香烃、氟代烃、和/或水溶液。将衬底或者衬底与衬底台浸入液浴中(参见例如第4,509,852号美国专利)意味着在扫描曝光期间必须累积大量的液体。这需要额外的或更大功率的电机，并且液体中的湍流可以导致不希望的和不可预料的效应。在沉浸式设备中，沉浸流体由流体处理系统、装置结构或设备进行处理。在实施例中，流体处理系统可以供应沉浸流体并且因此是流体供应系统。在实施例中，流体处理系统可以至少部分地限制沉浸流体并且由此是流体限制系统。在实施例中，流体处理系统可以向沉浸流体提供阻挡件并且由此是阻挡构件，诸如流体限制结构。在实施例中，流体处理系统可以形成或者使用气流，例如用于帮助控制沉浸流体的流动和/或位置。气流可以形成密封以限制沉浸流体，因此流体处理结构可以称作密封构件；该密封构件可以是流体限制结构。在实施例中，沉浸液体用作沉浸流体。在该情形中流体处理系统可以是液体处理系统。参照前述描述，在该段落中对相对于流体定义的特征的引用可以理解为包括了相对于液体定义的特征。在光刻设备中处理沉浸液体带来了一个或多个液体处理问题。间隙通常存在于诸如衬底和/或传感器之类的物体与物体(例如衬底和/或传感器)边缘周围的台(例如衬底台或测量台)之间。美国专利申请公开US2005-0264778公开了采用材料填充该间隙或者提供液体源或低压源以有意地采用液体填充间隙，以便于避免当间隙穿过液体供应系统之下时夹杂气泡和/或移除进入间隙的任何液体。
技术实现思路
例如希望的是提供从物体的边缘与物体位于其上的台之间的间隙移除液体。物体可以是衬底、传感器、封闭板等等。根据一个方面，提供了一种用于支撑物体的载物台，包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；开口，邻近物体保持器的边缘；以及通道，经由通路与开口流体连通，其中通道由与限定通路的第二材料不同的第一材料所限定。根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过经由通路与通道流体连通的开口从物体的边缘移除液体，其中通道由与限定通路的第二材料不同的第一材料所限定。根据一个方面，提供了一种用于支撑物体的载物台，载物台包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；通道，与邻近物体保持器的边缘的开口流体连通，并且沿着物体保持器的外边缘的至少一部分延伸；以及液体维持器，在通道中以用于将液体维持在通道中，液体维持器包括限定在通道的底部上的缺口、或者存在于通道的底部处的突起或元件。根据一个方面，提供了一种用于支撑物体的载物台，载物台包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；通道，与邻近物体保持器的边缘的开口流体连通，并且沿着物体保持器的外边缘的至少一部分延伸；以及液体维持器，在通道中以用于将液体维持在通道中，液体维持器包括在通道延长的方向上至少部分地阻挡液体沿着通道通过的突起或元件。根据一个方面，提供了一种用于支撑物体的载物台，载物台包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；通道，与邻近物体保持器的边缘的开口流体连通，并且沿着物体保持器的外边缘的至少一部分延伸；以及液体维持器，在通道中以用于将液体维持在通道中，液体维持器包括限定在通道的侧壁上的缺口、或者存在于通道的侧壁处的突起或元件。根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过沿着物体的边缘的至少一部分延伸的通道从物体的边缘移除液体，其中液体从台中的热调节流体通路提供至通道。根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过沿着物体的边缘的至少一部分延伸的通道从物体的边缘移除液体，其中由限定在通道的底部上的缺口、或者存在于通道的底部处的突起或元件将液体维持在通道中。根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过沿着物体的边缘的至少一部分延伸的通道从物体的边缘移除液体，其中由在通道延长的方向上至少部分地阻挡液体沿着通道通过的突起或元件将液体维持在通道中。根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过沿着物体的边缘的至少一部分延伸的通道从物体的边缘移除液体，其中由限定在通道的侧壁上的缺口、或者存在于通道的侧壁处的突起或元件将液体维持在通道中。附图说明现在将仅借由示例的方式、参考其中对应的附图标记表示对应的部件的所附示意图描述本专利技术的实施例，并且其中：图1示出了根据本专利技术实施例的光刻设备；图2和图3示出了用于光刻投影设备的液体供应系统；图4示出了用于光刻投影设备的另一液体供应系统；图5示出了用于光刻投影设备的另一液体供应系统；图6至图14在截面图中示出了实施例的衬底台的一部分；图15是示出了本专利技术的实施例的益处的图表；以及图16至图26在截面图中示出了实施例的衬底台的一部分。具体实施方式图1示意性示出了根据本专利技术一个实施例的光刻设备。设备包括：照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如UV辐射或DUV辐射)；支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接至配置用于根据某些参数精确地定位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于支撑物体的载物台，所述载物台包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；开口，邻近所述物体保持器的边缘；以及通道，经由通路与所述开口流体连通，其中所述通道由与限定所述通路的第二材料不同的第一材料所限定。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.29 US 61/652,602;2012.10.02 US 61/709,030;1.一种用于支撑物体的载物台，所述载物台包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；第一开口，邻近所述物体保持器的边缘；以及第一通道，经由通路与所述第一开口流体连通，其中所述第一通道由与限定所述通路的第二材料不同的第一材料所限定，并且其中与所述第二材料相比所述第一材料的不同特性导致在使用期间比所述第一材料和所述第二材料相同的情形更低热负荷和/或更低热形变负荷被施加至所述支撑本体。2.根据权利要求1所述的载物台，其中，所述第一材料具有不同于所述第二材料的热导率。3.根据权利要求2所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率比所述第二材料的热导率大至少一个数量级。4.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率为至少500W/mK。5.根据权利要求4所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率为至少800W/mK。6.根据权利要求5所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率为至少1000W/mK。7.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，其中，所述第一材料是热解石墨或工业金刚石。8.根据权利要求1或2所述的载物台，其中，所述第一材料具有不同于所述第二材料的热膨胀系数。9.根据权利要求8所述的载物台，其中，所述第一材料的热膨胀系数比所述第二材料的热膨胀系数小至少一个数量级。10.根据权利要求1所述的载物台，其中，所述第一材料是玻璃陶瓷。11.根据权利要求10所述的载物台，其中，所述第一材料是铝硅酸盐玻璃陶瓷或堇青石。12.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，其中，所述第一材料的热膨胀系数小于或等于1×10-6/K。13.根据权利要求12所述的载物台，其中，所述第一材料的热膨胀系数小于或等于0.5×10-6/K。14.根据权利要求13所述的载物台，其中，所述第一材料的热膨胀系数小于或等于0.25×10-6/K。15.根据权利要求14所述的载物台，其中，所述第一材料的热膨胀系数小于或等于100×10-9/K。16.根据权利要求1所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率比所述第二材料的热导率低至少一个数量级。17.根据权利要求16所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率比所述第二材料的热导率低至少两个数量级。18.根据权利要求1或2所述的载物台，其中，所述第一材料是玻璃或者聚合物。19.根据权利要求1或2所述的载物台，其中，所述第一材料是选自以下的至少一种：PTFE、HDPE、PP、PVC、橡胶、和/或软木。20.根据权利要求1或2所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率小于或等于10W/mK。21.根据权利要求20所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率小于或等于5W/mK。22.根据权利要求21所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率小于或等于2W/mK。23.根据权利要求22所述的载物台，其中，所述第一材料的热导率小于或等于1W/mK。24.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，其中，所述第一材料的杨氏模量小于或等于100×109Pa。25.根据权利要求24所述的载物台，其中，所述第一材料的杨氏模量小于或等于50×109Pa。26.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，进一步包括，在所述第一材料和所述第二材料之间的阻热层。27.根据权利要求1至3任一项所述的载物台，进一步包括，从所述支撑本体机械地解耦所述第一材料的机械阻挡件。28.根据权利要求26所述的载物台，其中，所述阻热层包括间隙。29.根据权利要求27所述的载物台，其中，所述机械阻挡件包括间隙。30.根据权利要求28或29所述的载物台，其中，采用气体或真空填充所述间隙。31.根据权利要求26所述的载物台，其中，所述阻热层是胶粘剂。32.根据权利要求27所述的载物台，其中，所述机械阻挡件是胶粘剂。33...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·洛朗，R·布洛克斯，R·科蒂，M·霍本，J·雅各布斯，R·拉法雷，H·伦彭斯，J·奥弗坎普，G·皮特塞，T·珀勒特，W·西蒙斯，K·斯蒂芬斯，S·特罗姆普，V·V·维，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL