光刻设备和衬底处理方法技术

一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。还提供了衬底处理方法，包括步骤：使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述方法包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧处夹紧衬底。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备、衬底处理方法和衬底处理装置。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或几个管芯)上。通常，图案的转移是把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括:所谓的步进机，在步进机中通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可以通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。目前的晶片处理系统将衬底(例如晶片)输运到衬底台隔室(例如晶片平台隔室)中。通过衬底台上面的处理器中的夹具定位所述衬底，从衬底台突出的销本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具，所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。

【技术特征摘要】
2011.10.27 US 61/552,2611.一种光刻设备，布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具，所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。2.按权利要求1所述的光刻设备，其中真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。3.按权利要求1或2所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括两个同心的密封件和形成在所述密封件之间的真空室。4.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括布置用以夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分的真空室和与所述真空室同心的另一真空室，所述另一真空室用以夹紧衬底表面的中心区域的至少一部分。5.按权利要求4所述的光刻设备，其中所述另一真空室包括多个真空入口管道，所述光刻设备包括用以测量衬底的平坦度的传感器和用以根据所测量的平坦度控制施加真空至每个真空入口管道的真空施加控制器。6.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括刚性夹具框架和布置成接触衬底表面的至少一个顺应性夹具部分，所述顺应性夹具部分相对于刚性夹具框架是能够移动的。7.根据前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括两个同心的软密封件、用以在软密封件之间形成的真...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·W·L·拉法瑞，H·M·塞格斯，T·P·M·卡迪，黄仰山，C·L·瓦伦丁，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：