本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置...

本发明公开了一种夹持装置、一种组件和一种光刻投影设备。所述夹持装置被构造和布置用于将两个部件夹持在一起。所述夹持装置具有：对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离器，...

一种EUV辐射源包括配置成将燃料液滴传输至等离子体产生位置(201)的燃料供给装置(200)；配置成提供第一激光束辐射(205)的第一激光束源，该第一激光束辐射在等离子体产生位置入射到燃料液滴上并由此蒸发燃料液滴；以及配置成随后在等离子...

公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装...

本发明公开了一种辐射源以及一种光刻设备。所述辐射源包括燃料源，配置成将燃料输送至等离子体发射位置、用于通过激光束蒸发以形成等离子体，并且还包括收集器，配置收集通过等离子体发射的EUV辐射并引导EUV辐射朝向中间焦点，收集器还包括衍射光栅...

一种系统，配置成测量从衬底衍射的两个分离的偏振束以确定衬底上的光栅的性质。线偏振光源通过固定的相推迟器以便改变两个正交的偏振辐射束中的一个相对于两个束的另一个的相。两个辐射束的相对的相以及检测器中测量的束的其他特征得出衬底表面的性质。光...

一种光刻投影设备可以包括一种激光清洁装置。所述激光清洁装置构造且布置成清洁表面。所述激光清洁装置包括：激光源，构造成且布置成产生辐射；和光学元件，构造成且布置成将所述辐射聚焦到焦点上，用于在所述表面的上方在背景气体中产生清洁等离子体。所...

提供一种照射系统，其具有多个反射元件，所述反射元件在引导辐射朝向光瞳平面内的不同位置的不同取向之间是可移动的，由此形成不同的照射模式。每个反射元件能够移动至将辐射引导至内部照射部位组中的一内部照射部位的第一取向、引导辐射至中间照射部位组...

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。具体地，本发明公开在浸没光刻设备中应用电浸湿控制浸没液体的状态。

本发明涉及计算的过程控制。本发明还提供了在计算过程控制(CPC)领域中的多个创新。CPC通过分析光刻设备/过程的时间漂移在芯片制造循环过程中提供了独特的诊断能力，和提供了有助于实现光刻设备/光刻过程的性能稳定性的方案。本发明的实施例通过...

本发明公开一种光刻设备和部件。所述光刻设备包括：衬底台，构造用以保持衬底；和投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；其中在使用中在真空环境中的光刻设备的部件的表面设置有重复结构，所述重复结构配置成增加所述表面的有效热适应...

本发明公开了一种多平台系统、用于多平台系统的控制方法以及光刻设备。多平台系统包括：定子，基本上平行于第一方向延伸；第一和第二平台，相对于定子是可移动的，这些平台设置有磁体系统用以产生磁场；和定子，设置有绕组用以与磁场相互作用以相对于定子...

光刻设备包括配置成调节辐射束的照射系统和构造用以支撑图案形成装置的支撑结构，图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。光刻设备还包括构造成保持衬底的衬底台；定位器，构造成定位衬底台；投影系统，配置成将图案化...

一种光谱纯度滤光片，包括：基底、穿过所述基底的多个孔和多个壁。所述壁限定了穿过所述基底的多个孔。所述光谱纯度滤光片还包括：第一层，形成在所述基底上以反射第一波长的辐射；和第二层，形成在所述第一层上以防止所述第一层氧化。所述孔被构造和布置...

一种用于产生极紫外辐射束用于光刻设备的辐射源具有碎片抑制装置，碎片抑制装置包括布置在辐射束的中间焦点(IF)处或其附近的喷嘴。喷嘴用作朝向辐射源或收集器光学元件引导气流(330)，以便偏转由辐射源发射的微粒碎片(43)。

本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装...

本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列...

一种光刻设备，包括：两个或更多的光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述两个或更多的光学装置列中的每一个包括用于提供所述束的一个或更多的辐射源（906）和用于将所述束投影到目标部分上的投影系统（920、924、930）；扫描移...

公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确...

光刻设备通过相对于彼此以一移动次序移动衬底和图案形成装置操作，使得图案被施加到衬底上的连续部分上。衬底的每一部分通过扫描操作来形成图案，其中图案形成装置通过辐射束来扫描且同时同步地通过图案化的辐射束扫描衬底，以便施加图案到衬底上的期望部...