光刻设备和器件制造方法技术

本发明专利技术涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光刻设备、可编程图案形成装置和器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是施加期望的图案到衬底或一部分衬底上的机器。光刻设备可以用于例 如集成电路(1C)、平板显示器以及具有精细特征的其它装置或结构的制造中。在传统的光刻设备中，可以将称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生对应于1C、平板显示器或其它装置的单层的电路图案。可以将这一图案转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。除了电路图案，图案形成装置还可以用于产生其它图案，例如彩色滤光片图案或点的矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是，可以更加快速地设置和/或更换图案，且成本较小。因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。使用独立可控元件的阵列对可编程图案形成装置进行(例如电子或光学地)编程，用于形成期望的图案化的束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.02.23 US 61/307,3711.一种设备，包括 光学装置列，配置成在衬底的目标部分上生成图案，所述光学装置列包括 可编程图案形成装置，配置成提供多个辐射束，和 投影系统，配置成将所述多个辐射束投影到衬底上，所述投影系统包括多个透镜； 致动器，配置成移动光学装置列或光学装置列的一部分，以在衬底的目标部分上扫描所述多个辐射束， 其中，所述光学装置列配置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜ー次将所述多个辐射束中的至少两个辐射束投影到衬底的目标部分上。2.根据权利要求I所述的设备，其中光学装置列包括移动部分和静止部分，配置成提供所述辐射束的可编程图案形成装置被设置于静止部分，配置成将辐射束投影的投影系统被设置于可移动部分。3.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，其中致动器是旋转电机，光学装置列或光学装置列的一部分的移动是旋转移动。4.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，还包括第二致动器，所述第二致动器布置成导致衬底和光学装置列的至少一部分之间的相对移动，使得所述至少两个辐射束在衬底上的投影在垂直于辐射束的移动方向的方向上与所述至少两个辐射束在衬底上之前的投影邻接。5.根据权利要求4所述的设备，配置成使得所述至少两个辐射束在衬底上的投影在垂直于辐射束的移动方向的方向上至少部分地与所述至少两个辐射束在衬底上之前的投影重叠。6.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，其中通过同一透镜一次投影到衬底上的多个辐射束是至少2个辐射束、至少5个辐射束或至少10个辐射束。7.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，其中可编程图案形成装置被构造成发射所述辐射束，所述辐射束在入射到衬底的目标部分上时被关于衬底相对于光学装置列的移动方向对角线地布置。8.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，包括分段的反射镜，每个段用于反射所述辐射束中对应的一个辐射束，所述段被布置以便相对于入射到反射镜上的辐射束之间的间隔减小被反射镜反射的辐射束之间的间隔。9.根据前述权利要求中任ー权利要求所述的设备，包括多个光纤，所述辐射束中的每个辐射束入射到所述光纤中的对应的一个光纤，所述光纤被布置成使得相对于光纤上游的辐射束之间的间隔减小光纤下游的辐射束之间的间隔。10.根据前述权利要求中...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃尔温·范茨韦特，彼得·德亚格尔，约翰内斯·昂伍李，埃里克·弗瑞特茨，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：
国别省市：