光刻设备和器件制造方法技术

本发明专利技术涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光刻设备、可编程图案形成装置以及器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是施加期望的图案到衬底或一部分衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(1C)、平板显示器以及具有精细特征的其它装置或结构的制造中。在传统的光 刻设备中，可以将称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生对应于1C、平板显示器或其它装置的单层的电路图案。可以将这一图案转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。除了电路图案，图案形成装置还可以用于产生其它图案，例如彩色滤光片图案或点的矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是，可以更加快速地设置和/或更换图案，且成本较小。因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。使用独立可控元件的阵列对可编程图案形成装置进行(例如电子或光学地)编程，用于形成期望的图案化的束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列等。
技术实现思路
例如期望提供一种灵活的、低成本的光刻设备，该光刻设备包括可编程图案形成>J-U ρ α装直。在一实施例中，公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括调制器和投影系统，所述调制器配置成将衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束曝光，所述投影系统配置成将所调制的束投影到衬底上。调制器可以相对于曝光区域移动，和/或投影系统可以具有用于接收多个束的透镜阵列，所述透镜阵列可相对于曝光区域移动。在一实施例中，光刻设备可以例如设置有光学装置列，所述光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有自发射式对比度装置，配置成发射辐射束；和投影系统，配置成将所述束的至少一部分投影到目标部分上。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。因此，可以实现束和衬底之间的相对移动。通过在移动期间接通或关断自发射式对比度装置，可以在衬底上生成图案。光学装置列的容差可能导致如投影到衬底上的图案的不准确。例如，期望提供，其中可以至少部分地消除这些容差中的ー些容差。根据本专利技术的实施例，提供了一种设备，包括光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案，所述光学装置列包括投影系统，所述投影系统配置成将束投影到衬底上，所述投影系统包括可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜；致动器，配置成旋转所述框架；和可调节构件，用于调节所述透镜中的至少ー个透镜相对于可旋转框架的位置。根据本专利技术的实施例，提供了一种器件制造方法，包括步骤通过使用投影系统将辐射束投影到衬底上，在衬底的目标部分上生成图案，所述 投影系统具有可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜；和通过旋转所述可旋转框架相对于衬底移动透镜，其中所述透镜中的至少ー个透镜的位置被通过可调节构件相对于可旋转框架进行调整。根据本专利技术的实施例，提供了一种设备，包括由可旋转框架支撑的多个透镜或独立可控元件的阵列；致动器，配置成旋转所述可旋转框架；和可调节构件，用于相对于可旋转框架调节透镜中的至少ー个透镜和/或独立可控元件中的至少ー个的位置。根据本专利技术的实施例，提供了ー种可调节构件，用于相对于支撑多个透镜或独立可控元件的阵列的可旋转框架来调节多个透镜中的至少ー个透镜或独立可控元件的阵列中的独立可控元件的位置。根据本专利技术的实施例，提供了一种设备，包括光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案，所述光学装置列包括配置成发射束的多个独立可控元件，所述多个独立可控元件由可移动框架支撑；致动器，配置成移动框架；和可调节构件，用于相对于可移动框架来调节至少ー个独立可控元件的位置。附图说明并入本文中且形成说明书的一部分的附图显示了本专利技术的实施例，且另外与所述描述一起用于说明本专利技术的原理并使得相关领域的技术人员能够进行和使用本专利技术。在附图中，相同的參考标记可以表示相同的或功能类似的元件。图I显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意侧视图。图2显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图3显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图4显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图5显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图6(A)_(D)显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的一部分的示意俯视图和侧视图。图7(A)_(0)显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的一部分的示意俯视图和侧视图。图7(P)显示根据本专利技术的实施例的独立可寻址元件的功率/前向电流图。图8显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意侧视图。图9显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意侧视图。图10显示根据本专利技术的实 施例的光刻设备的示意侧视图。图11显示根据本专利技术的实施例的用于光刻设备的独立可控元件的阵列的示意俯视图。图12显示使用本专利技术的实施例将图案转移到衬底的模式。图13显示光学引擎的示意性布置。图14(A)和(B)显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的一部分的示意侧视图。图15显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图16(A)显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的一部分的示意侧视图。图16(B)显示相对于衬底的传感器的检测区域的示意位置。图17显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意俯视图。图18显示根据本专利技术的实施例的光刻设备的示意横截面侧视图。图19显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意俯视图的布局。图20显示图19中的光刻设备的一部分的示意三维视图。图21显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局，且显不出相对于独立可控元件设定的光学元件242的三个不同的旋转位置。图22显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局，且显不出相对于独立可控元件设定的光学元件242的三个不同的旋转位置。图23显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局，且显不出相对于独立可控元件设定的光学元件242的五个不同的旋转位置。图24显示在使用直径为5. 6mm的标准激光二极管用于获得横过衬底的宽度的全部覆盖情况下的独立可控元件102的一部分的示意性布局。图25显示图24的细节的示意布局。图26显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局。图27显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局。图28显示根据本专利技术的实施例的具有在X-Y平面内基本上静止的独立可控元件和相对于其可移动的光学兀件的光刻设备的一部分的不意侧视图的布局，且显不出相对于独立可控元件设定的光学元件242的五个不同的旋转位置。图29显示图28的光刻设备的一部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.02.23 US 61/307,397;2010.07.15 US 61/364,6341.一种设备，包括 光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案，所述光学装置列包括投影系统，所述投影系统配置成将束投影到衬底上，所述投影系统包括可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜； 致动器，配置成旋转所述框架；和 可调节构件，用于调节所述透镜中的至少一个透镜相对于可旋转框架的位置。2.根据权利要求I所述的设备，其中每一透镜通过对应的可调节构件连接至可旋转框架。3.根据权利要求I或2所述的设备，其中所述可调节构件包括楔部，在沿着可旋转框架的旋转轴线的方向观察的情况下，所述楔部具有楔形。4.根据权利要求3所述的设备，其中所述可调节构件还包括基部和连接部，所述基部介于所述楔部和所述可旋转框架之间，所述楔部介于所述基部和所述连接部之间。5.根据权利要求4所述的设备，其中所述楔部包括通孔和互连栓，所述互连栓用于经由楔部将所述连接部连接至所述基部，且延伸通过所述楔部的通孔。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述互连栓的刚度低于所述基部和所述连接部的刚度。7.根据权利要求4-6中任一项所述的设备，其中所述连接部包括在垂直于可旋转框架的径向方向的方向上的缩颈部以及在所述径向方向上延伸越过所述缩颈部的推动/拉动>j-U ρ α装直。8.根据权利要求1-7中任一项所述的设备，其中所述框架的旋转移动超过500RPM、超过 1000RPM、超过 2000RPM 或超过 4000RPM。9.根据权利要求1-8中任一项所述的设备，还包括配置成发射所述束的至少一个自发射式对比度装置。10.一种器件制造方法，包括步骤 通过使用投影系统将辐射束投影到衬底上，在衬底的目标部分上生成图案，所述投影系统具有可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜；和通过旋转所述可旋转框架来相对于衬底移动透镜， 其中所述透镜中的至少一个透镜相对于可旋转框架的位置由可调节构件进行调整。11.根据权利要求10所述的方法，其中针对于所述透镜中的至少一个透镜执行聚焦调节，所述聚焦调节包括 将所述可调节构件安装至所述可旋转框架，和 调节推动/拉动装置，所述推...

【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·德亚格尔，约翰内斯·昂伍李，埃里克·弗瑞特茨，阿尔伯特·德克，约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克，汉瑞克·德曼，埃尔温·约翰·范茨韦特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：
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