光刻设备和器件制造方法技术

本发明专利技术涉及光刻设备，所述光刻设备包括光学装置列，该光学装置列能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置和配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备可以设置有致动器，以相对于衬底移动光学装置列或其一部分。投影系统还包括可调节构件(936)，用于相对于可移动光学装置列或其一部分调节可移动光学装置列或其一部分中的至少一个透镜(930)的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光刻设备、可编程图案形成装置以及器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是施加期望的图案到衬底或一部分衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(1C)、平板显示器以及具有精细特征的其它装置或结构的制造中。在传统的光 刻设备中，可以将称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生对应于1C、平板显示器或其它装置的单层的电路图案。可以将这一图案转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。除了电路图案，图案形成装置还可以用于产生其它图案，例如彩色滤光片图案或点的矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是，可以更加快速地设置和/或更换图案，且成本较小。因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。使用独立可控元件的阵列对可编程图案形成装置进行(例如电子或光学地)编程，用于形成期望的图案化的束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.02.23 US 61/307,397;2010.07.15 US 61/364,6341.一种设备，包括 光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案，所述光学装置列包括投影系统，所述投影系统配置成将束投影到衬底上，所述投影系统包括可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜； 致动器，配置成旋转所述框架；和 可调节构件，用于调节所述透镜中的至少一个透镜相对于可旋转框架的位置。2.根据权利要求I所述的设备，其中每一透镜通过对应的可调节构件连接至可旋转框架。3.根据权利要求I或2所述的设备，其中所述可调节构件包括楔部，在沿着可旋转框架的旋转轴线的方向观察的情况下，所述楔部具有楔形。4.根据权利要求3所述的设备，其中所述可调节构件还包括基部和连接部，所述基部介于所述楔部和所述可旋转框架之间，所述楔部介于所述基部和所述连接部之间。5.根据权利要求4所述的设备，其中所述楔部包括通孔和互连栓，所述互连栓用于经由楔部将所述连接部连接至所述基部，且延伸通过所述楔部的通孔。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述互连栓的刚度低于所述基部和所述连接部的刚度。7.根据权利要求4-6中任一项所述的设备，其中所述连接部包括在垂直于可旋转框架的径向方向的方向上的缩颈部以及在所述径向方向上延伸越过所述缩颈部的推动/拉动>j-U ρ α装直。8.根据权利要求1-7中任一项所述的设备，其中所述框架的旋转移动超过500RPM、超过 1000RPM、超过 2000RPM 或超过 4000RPM。9.根据权利要求1-8中任一项所述的设备，还包括配置成发射所述束的至少一个自发射式对比度装置。10.一种器件制造方法，包括步骤 通过使用投影系统将辐射束投影到衬底上，在衬底的目标部分上生成图案，所述投影系统具有可旋转框架和由可旋转框架支撑的多个透镜；和通过旋转所述可旋转框架来相对于衬底移动透镜， 其中所述透镜中的至少一个透镜相对于可旋转框架的位置由可调节构件进行调整。11.根据权利要求10所述的方法，其中针对于所述透镜中的至少一个透镜执行聚焦调节，所述聚焦调节包括 将所述可调节构件安装至所述可旋转框架，和 调节推动/拉动装置，所述推...

【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·德亚格尔，约翰内斯·昂伍李，埃里克·弗瑞特茨，阿尔伯特·德克，约翰尼斯·P·F·斯皮尔迪杰克，汉瑞克·德曼，埃尔温·约翰·范茨韦特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
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