光刻设备和方法技术

本发明专利技术公开了一种浸没类型的光刻设备。在所述设备中，多个加热和/或冷却装置被提供在投影系统的最终元件的邻近处，例如液体处理系统的阻挡构件上。所述加热和/或冷却装置可被用于例如控制在投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和补偿局部热负载变化的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上) 的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。已提出将光刻投影设备中的衬底浸没在具有相对高的折射率的液体(例如，水) 中，以填充介于投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：F·J·J·杰森，S·兰德柯尔，Y·考克，M·贝克尔斯，I·A·J·托马斯，M·A·C·马兰达，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：