用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和阻尼方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和阻尼方法。本发明专利技术的光刻设备包括：支撑框架，其由基座经由振动隔离系统支撑；投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上，其中所述投影系统包括由支撑框架弹簧支撑的第一框架；和主动阻尼系统，配置成衰减第一框架的移动，所述主动阻尼系统包括：第一传感器系统，配置成提供表示第一框架的绝对移动的第一传感器输出；第一致动器系统，布置成用以在第一框架和支撑框架之间施加力；和控制系统，配置成基于第一传感器输出将驱动信号提供至第一致动器系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和一种用于该设备的第一框架的阻尼方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。。通常，单个的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。光刻设备通常包括通过基座经由振动隔离系统支撑的支撑框架；和布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底的目标部分上的投影系统，其中投影系统包括第一框架， 所述第一框架由支撑框架弹簧支撑。在本文中，弹簧支撑指的是弹性支撑，其可以替代地称为弹簧安装，并且不要求实际存在弹簧。具有弹性行为或类似弹簧行为的任何元件，例如空气弹簧(air mount)，都可以形成本申请中提到的弹簧支撑。所提及的振动隔离系统用以将支撑框架与基座中的振动隔离开，并因此可以使用具有弹性行为或类似弹簧行为的元件。因此，质量体可以使用布置在两个质量体之间的振动隔离系统通过另一质量体来弹簧支撑，换句话说，振动隔离系统可以形成弹簧支撑。振动隔离系统和弹簧支撑对本领域技术人员是熟知的并且因此不作更详细的描述。第一框架可以与投影系统的其他部件(诸如光学元件(例如透镜元件、反射镜等) 相互作用。因为投影系统的光学元件在光刻设备的成像性能中是至关重要的，因此期望第一框架和光学元件之间的相互作用对光学元件的干扰最小。然而，已经发现第一框架的移动导致对光学元件的干扰。这些移动可能源自支撑框架的移动，支撑框架的移动又通过由支撑框架支撑的其他质量体的移动引起，使得(例如)投影系统的第二框架的移动导致第一框架的移动。由于第一框架的共振频率可以接近经由支撑框架连接至第一框架的其它质量体的共振频率的事实，这种影响可能会劣化。结果，光刻设备的成像性能是不令人满意的。另外，第一框架的移动可能会引起框架的变形。因为第一框架通常被用于支撑用于测量光学元件的位置的传感器，所以这些框架变形可能会引起光学元件的位置误差，再CN 102455607 A说明书2/9 页次导致光刻设备的成像性能劣化。
技术实现思路
期望提供一种改进的光刻设备，尤其是一种具有改进的成像性能的光刻设备。根据本专利技术的一实施例，提供一种光刻设备，包括支撑框架，由基座经由振动隔离系统支撑；投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上，其中所述投影系统包括由支撑框架弹簧支撑的第一框架；和主动阻尼系统，配置成衰减第一框架的移动，所述主动阻尼系统包括第一传感器系统，配置成提供表示第一框架的绝对移动的第一传感器输出；第一致动器系统，布置成用以在第一框架和支撑框架之间施加力；和控制器，配置成基于第一传感器输出将驱动信号提供至第一致动器。根据本专利技术的另一实施例，提供一种用于光刻设备的第一框架的移动的阻尼方法，其中所述第一框架由支撑框架弹簧支撑，所述支撑框架又由基座经由振动隔离系统支撑，所述方法包括以下步骤a)测量第一框架的绝对移动；b)基于所测量的第一框架的移动在第一框架和支撑框架之间施加力。附图说明现在仅通过示例的方式，参考示意性附图对本专利技术的实施例进行描述，其中相应的参考标记表示相应的部件，在附图中图1示出根据本专利技术一实施例的光刻设备；图2示意地示出根据本专利技术的一实施例的图1中的光刻设备的一部分；图3示意地示出根据本专利技术的另一实施例的光刻设备的一部分；和图4示意地示出根据本专利技术的又一实施例的光刻设备的一部分。具体实施例图1示意地示出了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述设备包括照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B (例如紫外(UV)辐射或任何其他合适的辐射)； 图案形成装置支撑结构或掩模支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与配置用以根据特定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑件”，构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用以根据特定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW 相连。所述设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置成将由图案形成装置 MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或更多根管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。图案形成装置支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。 图案形成装置支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置MA。图案形成装置支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。图案形成装置支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统PS)。这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”可以被看作与更为上位的术语“图案形成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意， 被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。在此处使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任何类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。 此处使用的任何术语“投影透镜”可以被看作与更为上位的“投影系统”同义。如这里所示的，所述设备可以是透射型的(例如采用透射型掩模)。替换地，所述设备是反射型的(例如，采用上面所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射掩模)。所述光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·巴特勒，M·H·H·奥德尼惠斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：