【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种温度稳定系统，其构造成稳定物体的温度，例如晶片或图案形成 装置的温度。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。 通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的 步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标 部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所 述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也 可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。在传统的光刻投影设备中，在光刻处理期间，物体(例如晶片或掩模版)...
【技术保护点】
一种温度稳定系统，构造成稳定物体的温度，所述系统包括： 物体支撑结构，构造成当物体安装在物体支撑位置上时支撑所述物体； 回填结构，构造并布置成供给缓冲流体以与所述物体热接触以及抽取与所述物体热接触的缓冲流体； 抽取管道，构造并布置成从所述回填结构至少抽取至少气相的热缓冲流体；和 供给管道，构造并布置成供给至少液相的热缓冲流体， 所述回填结构布置成当在缓冲流体和物体之间建立热接触时使热缓冲流体成为液相和气相的组合的状态。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·奥腾斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL
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