辐射系统和方法以及光谱纯度滤光片技术方案

一种辐射系统（３），其配置用以产生辐射束（Ｂ）。所述系统（３）包括室（３）。该室（３）包括：辐射源（５０），配置用以产生辐射（Ｂ）；和辐射收集器（７０），配置用以收集由所述源（５０）产生的辐射（Ｂ），以将收集的辐射传送到辐射束发射孔（６０）。光谱纯度滤光片（８０）提高将要通过所述孔（６０）发射的辐射（Ｂ）的光谱纯度。滤光片（８０）将该室（３）分成高压区域（Ｒ１）和低压区域（Ｒ２）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种辐射系统，其配置用以产生辐射束，所述辐射系统包括室，所述室包括：辐射源，配置用以产生辐射；辐射束发射孔；辐射收集器，配置用以收集由所述源产生的辐射，并且用以将收集的辐射传送到所述辐射束发射孔；和光谱纯度滤光片，配置成提高将要通过所述孔发射的辐射的光谱纯度，其中，所述光谱纯度滤光片配置成将所述室分成高压区域和低压区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：HG斯吉麦尔，TAR范埃姆派尔，GHPM斯温凯尔斯，MMJW范赫彭，D兰拜特斯基，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]