光刻设备和用于光刻设备的密封装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光刻设备和用于光刻设备的密封装置。所述光刻设备包括一设备，所述设备包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动；和控制器，该控制器被配置以在所述第一体和所述第二体彼此相对移动期间控制所述距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备和用于光刻设备的密封装置。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上) 的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地 称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以 将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个 管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀 剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备 包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每 一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目 标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转 移到所述衬底上。从美国专利No. 6，603，130B1 了解了包括密封装置(宽泛地被称为“密封件”)的 设备。美国专利No. 6本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J马奎因，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL