本发明提供一种用于去除光刻设备的元件（５１０）上的沉积物的清洁工艺。该方法包括用碱性清洁液（５０２）（非原位）处理该元件（５１０）。这样，可以从污染物阻挡件或收集器反射镜上去除锡。特别有益的是，施加电压到该将要被清洁的元件上和／或使用络...

一种用于形成电磁辐射束的设备包括等离子体辐射源（２４）和翼片阱（２５），该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源（２０）的辐射的方向延伸的多个薄翼片（２０）。在等离子体辐射源（２０）和翼片阱（２４）之间设置格栅（２２）。在格栅（２２）和翼片...

本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和／或锡。为...

一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将...

一种以两个或更多个自由度对物体进行阻尼的方法，包括步骤：在两个或更多个测量位置中每一个测量位置处测量位置参量；从所测量的位置参量为每个动态模式提取测量信号；将动态模式的测量信号供给与各个动态模式相关联的控制器单元，该控制器单元基于各自测...

本发明公开了一种优化方法和一种光刻单元。在所述优化方法中，记录了两次图案化光刻过程中的每一步骤中的变量，测量了两次图案化过程中的中间特征的特性。之后对最终特征进行模型化，和优化变量的值。

本发明提供一种光刻设备和一种辐射至少两个目标部分的方法。所述光刻设备包括台、位于所述台上的或位于所述台上的物体上的至少两个目标部分以及所述至少两个目标部分之间的表面材料。所述设备还包括光学系统，所述光学系统配置用于沿着光路朝向所述台投影...

本发明提供一种用于光刻设备的方法。在一实施例中，提供一种采用光刻设备至少部分地补偿将要应用到衬底的图案特征的特性中的偏差的方法。所述方法包括获得有关所述特性中的偏差的信息，和确定将要应用到将要用于将所述图案特征应用到所述衬底的辐射束的至...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。在光刻方法中，投影系统的特性在加热（曝光）和冷却的周期之前和之后被测量，以提供用于校准透镜加热模型的数据。该模型具有对作用于该特性的冷却效应进行模型化的部分和对作用于该特性的加热效应进行模型化...

本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。在浸没式光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙大小或区域面积，减小或防止在浸没液体中的气泡形成。间隙大小采用边缘构件来减小，边缘构件可以是例如熟知的ＢＥＳ（气泡抽取系统）环的环。关于衬底的形状和／或横截...

一种光刻设备包括可移动的第一物体和包括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料并被配置以通过与可移动的第一物体进行热量交换来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给至热交换体，以改变热交换体的温度，以便冷却...

本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备具有包括目标和／或传感器的台，和用以采用局部气流从目标和／或传感器转移液体的液体转移装置。液体转移装置可以定位在多个位置处，例如安装在曝光站处的液体处理装置、邻近曝光站和测量站之间的传递...

本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这...

本发明公开了一种工作台系统、包括该工作台系统的光刻设备及一种校正方法。在本发明中，测量工作台位置的位置测量系统包括：参考板；多个传感器，其被设置成依据工作台相对于参考板的位置，多个传感器的至少一个子集与参考板协作，为子集内的每个传感器提...

本发明公开了一种检测方法和设备、一种光刻处理单元和设备、以及一种器件制造方法。所述检测设备配置成测量从衬底衍射上衍射时的两个分离偏振光束，以确定该衬底的特性。圆偏振光源或椭圆偏振光源经由固定相位延迟器，以改变两个垂直偏振辐射光束中的一个...

本发明公开了一种光学聚焦传感器、检查设备以及光刻设备。为了探测衬底是否处在检查设备的焦平面上，一种光学聚焦传感器被布置为通过物镜接收辐射光束。光学聚焦传感器包括分束器，该分束器配置为将辐射光束分为第一子光束和第二子光束。使用每个子光束的...

本发明为光刻装置及用于校准该光刻装置的方法。光刻装置，包括基底台和用于控制基底台的移动的运动控制系统。该运动控制系统包括至少三个位置检测器，用于检测基底台的位置。为了测量基底台的位置和定向，每个位置检测器都包括一维或多维类型的光学编码器...

本发明提供一种设置有交换桥的光刻设备，包括两个平台，它们中的每一个配置用以保持衬底，其中每个平台设置有用以移动具有衬底的台的短行程模块和用以移动所述平台的短行程模块的长行程模块。光刻设备包括用以耦合平台的交换桥，和其中，在使用时，在第一...

本发明提供一种用于快速敏感度模型计算的ΔＴＣＣ。在本发明中，一种用于确定图案的参考图像和另一图像之间的差异的方法包括：确定参考成像函数；确定表示所述参考成像函数和另一成像函数之间的差异的差异函数的参数；基于所述差异函数和所确定的参数计算...

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统。所述设备还包括阻挡构件，所述阻挡构件在使用中包围在投影系统和衬底之间的空隙，以部分地与投影系统限定液体的贮液器。面对投...