光刻设备和定位设备制造技术

一种光刻设备包括可移动的第一物体和包括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料并被配置以通过与可移动的第一物体进行热量交换来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给至热交换体，以改变热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备。本专利技术还涉及定位设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上 的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行 的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包 括所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一 个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部 分。也能够以通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到 衬底上。通常，光刻设备包括可移动的物体。这样的物体可以相对于另一物体(例如框架 (例如基础框架或量测框架))移动。可移动物体的一个例子是例如衬底或图案形成装置的 支撑结构，其可以移动以在图案转移过程中相对于辐射束定位衬底和/或图案形成装置， 其中，将图案从图案形成装置转移至衬底。尤其在扫描器中，两个支撑结构都是可移动的。在一个物体相对另一物体可移动时，电缆和/或软管可以设置在它们之间，以将 电力、数据、流体等从一个物体转送至另一物体，反之亦然。可移动物体可以包括致动器形 式的热源，其可以相对于另一物体或另一热源定位可移动的物体。这些热源可能影响可移 动物体的温度和/或温度分布。在将可移动物体用于光刻设备的图案转移过程中时，优选 地控制温度(可能的话使其处于千分之一开尔文(millikelvin)范围内)，以便最小化成像 问题和/或重叠误差。在这种情形中，可以通过使预定温度的流体通过可移动的物体，来控 制可移动物体的温度，其中流体通过软管传送至可移动物体和从可移动物体通过软管传送 罔开。然而，在两个相对移动的物体之间定位电缆和/或软管可能限制了可移动物体的 可获得的位置精度，这是因为电缆和/或软管引入了力扰动。在承载流体的软管的情形中， 这些力扰动可能是流动流体本身的惯性力的结果和/或流体和可移动物体的加速度或减 速度之间的相互作用。结合降低可移动物体的质量的趋势和对精度和加速度(> 15G)的 增加的需求，这些扰动变得不可接受并可能导致光刻设备的成像问题和/或重叠误差。
技术实现思路
期望提供一种减少的成像问题和/或重叠误差的光刻设备。还期望改善温度受控 制的可移动的物体的可获得的位置精度。根据本专利技术的一个实施例，提供了一种光刻设备，其包括可移动的第一物体和包 括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料，和被配置以通过与 可移动的第一物体交换热量来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给 至热交换体以适应热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。 根据本专利技术的另一实施例，提供了定位设备，以相对于第二物体定位第一物体，所 述定位设备包括热交换器，该热交换器包括热交换体，该热交换体包括具有电热或磁热性 质的材料，该热交换体被配置以与第一物体和第二物体进行热量交换；和发生器，其被配置 以将电磁场供给至热交换体以适应热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体，其中，热交 换体被配置以在第一位置与第一物体交换热量，和在第二位置与第二物体交换热量，所述 热交换器还包括定位系统，该定位系统被配置以在第一和第二位置之间至少移动热交换体 的一部分。附图说明下面仅通过示例的方式，参考示意性附图对本专利技术的实施例进行描述，其中示意 性附图中相应的参考标记表示相应的部件，在附图中图1示出根据本专利技术的实施例的光刻设备；图2示出可以通过根据本专利技术的一个实施例的热交换组件来控制温度的物体的 示意图；图3示出根据本专利技术的另一实施例的热交换组件的示意图；图4示出根据本专利技术的又一实施例的热交换组件的示意图；图5示出根据本专利技术的还一实施例的热交换组件的示意图；以及图6示出根据本专利技术的包括热交换组件的定位设备的示意图。具体实施例方式图1示意地示出了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括照 射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B (例如，紫外(UV)辐射或任何其它的适合的 辐射)；图案形成装置支撑件或掩模支撑结构(例如掩模台)MT，其构造用于支撑图案形成 装置(例如掩模)MA，并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置MA的第一定 位装置PM相连。该光刻设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑件”，其构造用于 保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底W 的第二定位装置PW相连。该光刻设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，其 配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C (例如包括 一根或多根管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静 电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形或控制辐射。图案形成装置支撑件MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及 诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置MA。图 案形成装置支撑件MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装 置MA。图案形成装置支撑件MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。图案形成装置支撑件MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案 形成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在 辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意， 被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图 案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的 器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置MA可以是透射式的或反射式的。图案形成装置MA的示例包括掩模、 可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括 诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类 的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独 立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反 射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折 射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使 用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其它因素所适合的。这 里使用的术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：可移动的第一物体；和热交换器，其包括：热交换体，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料，并被配置以通过与所述可移动的第一物体交换热量来影响所述可移动的第一物体的温度，和发生器，其被配置以将电磁场供给至所述热交换体，以改变所述热交换体的温度，以便冷却或加热所述第一物体。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：NJ吉利森，TPM卡迪，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]