设置有交换桥的光刻设备制造技术

本发明专利技术提供一种设置有交换桥的光刻设备，包括两个平台，它们中的每一个配置用以保持衬底，其中每个平台设置有用以移动具有衬底的台的短行程模块和用以移动所述平台的短行程模块的长行程模块。光刻设备包括用以耦合平台的交换桥，和其中，在使用时，在第一配置中，所述平台相对于彼此是可移动的，和其中，在使用时，在第二配置中，所述平台通过交换桥被耦合以进行联合移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种包括两个用于保持衬底的平台的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行 的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包 括所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一 个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部 分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬 底上。由美国专利第7，310，132B1号已知一种光刻设备。在美国专利第7，310，132B1号 中，所述的光刻设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：第一和第二平台，所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底，所述第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块；交换桥，所述交换桥配置用以耦合所述第一和所述第二平台，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的，和其中，在第二配置中，所述第一和第二平台通过所述交换桥被耦合，用于联合移动；桥保持件，所述桥保持件配置用以在第一配置中保持所述交换桥，其中所述桥保持件与所述第一和第二平台的所述短行程模块的可移动部分是动态隔离的；以及耦合器，所述耦合器配置用以将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：M克鲁兹卡，F奥尔，FM贾克布斯，RHA亨森，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]