本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。

本发明公开了一种集成的曝光后烘烤的轨道，还公开了用以处理晶片的系统和方法，组合的曝光后烘烤和冷却单元，以及接口。示例性系统包括光刻工具、本地轨道、传送装置、传送装置处理机、接口单元和用于规划处理过程的控制器。示例性的组合的曝光后烘烤和冷...

本发明公开了一种器件制造方法和光刻设备。具体地，一种掩模被用于印刷图案。由于掩模图案表面拓扑，会发生图像误差，例如在所投影图案中的相邻亮线之间的强度不平衡。为了帮助消除或减轻强度不平衡的问题，投影系统可以包括光学相位调节器，其构造并布置...

本发明公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置...

本发明提供一种光刻设备、控制系统、多核处理器以及在多核处理器上启动任务的方法。所述多核处理器包括两个或更多的核；外部通信工具，所述外部通信工具由所述核共享且能够在一时刻与所述核中的一个通信；和内部通信工具，所述内部通信工具能够与所述核中...

本发明提供一种光刻设备、定位系统和定位方法。具体地，一种用于光刻设备的定位系统，包括：控制系统，用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，用于测量所述可移动物体的位置；致动器，用于施加...

本发明光刻装置和器件制造方法。提供一种光刻装置，其中曝光通过穿过具有ｐＨ小于７的水溶液投影进行，溶液与待曝光的基底接触，水溶液有利的是一种抗反射外涂层溶液。

光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和／或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。

光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和／或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。

公开了一种光刻装置和器件制造方法。照射系统提供辐射光束。带图案的光束被投射到基底的目标部分上。位移系统引起基底和光束之间的相对位移。设置所述投影系统，使得每条光束沿基底上的相应一条轨迹进行扫描。所述轨迹重叠，使得每条轨迹包括一个仅被一条...

一种用于从光刻机具抽取多相流体流的真空系统（３０），包括用于从所述机具抽取所述流体的泵吸设备（３６、３８），以及设置在所述泵吸设备的上游、用于将从所述机具抽取的所述流体分离为气相及液相的分离罐（３２）。所述泵吸设备包括用于从所述罐抽取气...

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。定位设备包括：第一物体和第二物体；定位系统，其配置用以相对于彼此定位所述第一物体和所述第二物体；和柔性传输线，其连接到所述第一物体和所述第二物体，所述柔性传输线具有沿柔性传输线变化的刚度，使得所述...

本发明提供一种用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法。具体地，本发明提供一种用于测量光刻设备中衬底的表面的高度的水平传感器布置。该水平传感器布置设置有用于向所述衬底发射检测辐射的光源和用于在操作中测量从所述衬底反射的辐射的检测器单元...

本发明提供一种衬底台、浸没式光刻设备和一种器件制造方法。本发明公开一种用于浸没式光刻设备的衬底台，包括：凹陷，其配置成容纳给定尺寸的衬底；和流体抽取系统，其配置成从所述衬底的边缘和所述凹陷的边缘之间的间隙抽取流体，流体抽取系统配置成使得...

本发明公开了一种光刻装置，其中圆形传感器通过三个板簧安装在基底台上，所述板簧围绕传感器的热轴线均匀隔开。该板簧布置成两个彼此可拆卸连接的安装部。板簧是弹性的，并允许传感器因热膨胀和收缩而相对基底台移动，但是可以确保传感器的热心不相对基底...

本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：支撑结构，其构造用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，其构造用以在中心区域保持衬底；和投影系统，其配置成沿第一方...

本发明公开了一种光刻设备、控制该设备的方法及器件制造方法。具体地，公开了一种操作光刻设备的方法。该方法包括相对于投影系统移动支撑衬底的衬底台，和调整在对衬底的边缘处或附近的预定区域中的目标成像期间衬底台和投影系统之间的扫描速度，或调整在...

本发明提供一种流体供给系统、一种光刻设备、一种改变流体流量的方法和一种器件制造方法。用于光刻设备的流体供给系统包括控制器，所述控制器配置用于改变从流体源到第一部件的流体流量，同时将对流体源上游的流体的总流阻保持基本上恒定。

一种液体浸没式光刻系统包括投影光学系统和喷洒头。所述投影光学系统配置用于以图案化的辐射束对衬底进行曝光。所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴配置成在曝光操作过程中与衬底表面相隔不同距离。

本发明提供一种检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法。对于角度分解光谱测量，使用具有四个扇形的照射轮廓的辐射束。第一和第三扇形被照射，而第二和第四扇形没有被照射。因此，最终的光瞳面被分成四个扇形，并且仅零级衍射图案出现在第一和第三...