光刻设备、定位系统以及定位方法技术方案

本发明专利技术提供一种光刻设备、定位系统和定位方法。具体地，一种用于光刻设备的定位系统，包括：控制系统，用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，用于测量所述可移动物体的位置；致动器，用于施加力到所述可移动物体；和控制器，用于基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统，其配置成确定所述控制系统的失效，并且如果确定所述失效，禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术 涉及一种光刻设备、用于光刻设备的定位系统以及用于光刻设备的定位方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上) 的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地 称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以 将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个 管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀 齐IJ)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备 包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每 一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部 分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到 所述衬底上。光刻设备可以包括一个或更多个可移动物体，例如前面提到的衬底台和/或图案 形成装置。可移动物体可以通过控制系统相对于框架(例如量测框架或基础框架)定位。 控制系统包括用以测量可移动物体的位置的测量系统、用以施加力给可移动物体的致动 器、和用以基于测量系统的输出提供驱动信号给致动器的控制器。一个重要的问题在于，如果控制系统由于例如供电中断或控制系统的部件失效的 原因而失效，该如何处理。在一些实施例中，应急策略是禁用控制系统，使得可移动物体和 框架之间的摩擦减小可移动物体的动能。然后在可移动物体与其周围物体碰撞时消耗所有 剩余动能。然而，在光刻设备的可能产出方面需求不断提高，因而对在有限空间内的可移动 物体的速度要求不断提高，位置精确度导致使用轻量的材料、敏感的部件、高的加速度以及 可移动物体和其周围物体之间小的间隔，这些导致紧凑的敏感系统。目前的应急策略在可 移动物体与其周围物体碰撞时不再能有效地防止可移动物体(和其周围物体)受到损坏。 如果可移动物体被损坏，这也意味着不希望的光刻设备的停机，以便修理或更换可移动物 体和/或修理昂贵的光刻设备。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种具有改进的应急策略的光刻设备。根据本专利技术的一实施例，提供一种用于光刻设备的定位系统，包括控制系统，用 于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包 括测量系统，其用于测量所述可移动物体的位置；致动器，其用于施加力到所述可移动物体；和控制器，其基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统， 其配置成确定所述控制系统的失效，并且当确定或如果确定所述失效，则禁用所述控制系 统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。 根据本专利技术的另一实施例，提供一种光刻设备，包括照射系统，其配置成调节辐 射束；支撑结构，其构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束 的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，其构造成保持衬底；投影系 统，其配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和定位系统，其包括控 制系统，所述控制系统用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移 动物体，所述控制系统包括测量系统，所述测量系统用于测量所述可移动物体的位置；致 动器，所述致动器用于施加力到所述可移动物体；和控制器，所述控制器基于所述测量系统 的输出提供驱动信号到所述致动器；和紧急制动系统，所述紧急制动系统配置成确定所述 控制系统的失效，并且当确定或如果确定所述失效，则禁用所述控制系统并且对抗所述框 架拉动所述可移动物体。根据本专利技术的又一实施例，提供一种用于光刻设备的定位方法，包括沿至少一个 基本上平行于框架的方向通过控制系统定位所述光刻设备的可移动物体；通过紧急制动系 统确定所述控制系统的失效；和当确定或如果确定所述失效，通过所述紧急制动系统禁用 所述控制系统；并通过所述紧急制动系统对抗所述框架拉动所述可移动物体。附图说明现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本专利技术的实施例，其中在附图 中相应的附图标记表示相应的部件，且其中图1描述了根据本专利技术实施例的光刻设备；图2示出根据本专利技术另一实施例的光刻设备的示意图；图3示出根据本专利技术还一实施例的定位系统的示意图；和图4示出用以通过根据图3中的实施例的紧急制动系统减小可移动物体的动能的 不同方式的示意图。具体实施例方式图1示意地示出了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备LA。所述光刻设备包括 照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B (例如，紫外(UV)辐射或其他合适辐射)； 图案形成装置支撑结构或掩模支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例 如掩模)MA并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相 连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑结构”，构造用于保持衬底(例 如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置 PW相连。所述设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统PS配置 用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C (例如包括一根 或多根管芯)上。所述照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁 型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。所述图案形成装置支撑结构以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计以及 诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置。所述图案 形成装置支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置。 所述图案形成装置支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动 的。所述图案形成装置支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投 影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形 成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意， 被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图 案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器 件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编 程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如 二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩 模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地 倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵 反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折 射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使 用的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备的定位系统，所述定位系统包括：控制系统，其配置用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，其配置成测量所述可移动物体的位置，致动器，其配置成施加力到所述可移动物体，和控制器，其配置成基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统，其配置成确定所述控制系统的失效，并且如果确定所述失效，则禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：EMJ斯密特思，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]