流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置远离光学轴线，并且液滴去除装置包括面对例如被曝光的衬底和／或衬底台的多孔部件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体处理装置、一种浸没式光刻设备以及器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行 的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括 所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标 部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图 案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也 可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸入到具有相对高折射率的液体(例如水) 中，以便充满投影系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浸没式光刻设备，包括：投影系统，其具有光学轴线；衬底台，其配置用于保持衬底，所述衬底、台或两者限定面对的表面；和流体处理结构，其配置成供给浸没液体到限定在所述投影系统和所述面对的表面之间的浸没空间，所述流体处理结构包括：流体去除装置，其布置成去除来自所述浸没空间的浸没液体；和液滴去除装置，其布置成去除浸没液体的液滴，其中：所述液滴去除装置较所述流体去除装置远离所述光学轴线，并且所述液滴去除装置包括面对所述面对的表面的多孔部件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：EHEC尤姆麦伦，K斯蒂芬斯，兼子毅之，GMM考克恩，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]