本发明公开了一种定位系统、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述定位系统用以在光刻设备的底架内以定位台，所述定位系统包括：用以施加致动力到所述台上的第一致动器，该第一致动器连接到构造并配置成吸收该第一致动器的反作用力的第一平衡质量块，其...

本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热...

本发明公开了一种浸没式光刻设备，其包括被配置用于供给流体的流体供给系统，所述流体供给系统具有腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔将进入所述腔的流体沿朝在所述多个...

本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。

本发明公开了一种台系统校准方法、台系统和包括这样的台系统的光刻设备。其中台系统包括编码器测量系统，所述编码器测量系统包括编码器网格和与所述编码器网格协同工作的至少两个传感器头，每个传感器头提供了表示在水平方向和垂直方向上的位置灵敏度的传...

本发明公开了一种用于光刻设备中的晶片粗对准的方法，其中，衬底包括在划线中的标记，所述划线沿作为第一方向的纵向方向延伸。所述标记具有在所述第一方向上的周期性结构。所述方法包括：提供照射束，用于在垂直于标记的周期性结构的方向上沿跨过所述标记...

本发明公开了一种测量和获取相对于衬底表面的高度数据的方法和设备。所述设备包括用于相对于投影系统的焦平面定位衬底的目标部分的水平传感器、构造成移动光刻设备的衬底台的一对致动器和用于通过控制致动器相对于水平传感器移动衬底的控制器。控制器将第...

本发明公开了一种用于提供对准标记的方法、器件制造方法和光刻设备。实施例涉及一种用于在衬底上提供一组对准标记的方法，所述方法包括：在衬底的层上对具有一元素尺寸的元素的第一图案进行曝光，并在所述第一图案上方对具有一不同的元素尺寸的元素的第二...

本发明公开了一种光刻设备和方法。具体地，本发明提供一种用于清洁衬底台或位于衬底台的顶部表面的物体的顶部表面的受限制的区域的方法。在正常成像过程中使用的光学系统被调整用于限制辐射束的横截面面积，以形成投射到受限制的区域上的清洁辐射束。

一种散射仪具有能够发射在不同的第一和第二波长范围内的辐射的 辐射源。一种可调整光学元件设置用于根据所使用的波长范围的需要实现 色差修正。一种单散射仪可以由此采用宽间隔的波长实现测量。

本发明提供一种具有带粘弹性阻尼层的夹盘的光刻设备，包括构造用 于调节辐射束的照射系统、构造成支撑图案形成装置的支撑结构、能够将 图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束的图案形成 装置、构造成保持衬底的衬底台、构造用于将图案...

本发明公开了一种用于晶片粗对准的标记结构及其制造方法。所述 标记结构包括在衬底上的至少4条线。所述线沿第一方向彼此平行地延伸 且在每对线之间设置有节距，所述节距沿垂直于第一方向的第二方向上 被定向。在所选取的每对线之间的节距不同于在所选...

一种检测掩膜缺陷的方法，其中掩膜制造之后立刻由掩膜在基准衬底上形成图案。当ＩＣ制造发生时，将所述基准衬底储存在洁净的条件中。当怀疑掩膜有缺陷时，通过掩膜曝光使涂覆抗蚀剂的衬底、也就是测试衬底形成图案。比较基准衬底和测试衬底上的图案，以确...

例如为了在不同基底的曝光之间方便地移动基底，使用致动的封闭板提供基底、基底台或上述两者作为限制液体的光刻装置中的空间边界的一部分，而不会例如破坏限制液体的密封。

本发明公开一种可移动支撑结构、位置控制系统、光刻设备和位置控 制方法。根据本发明的可移动支撑结构构造成保持可替换物体。该支撑结 构包括相对于参照物体可移动地设置的可移动结构、相对于可移动结构可 移动地设置并构造成保持可替换物体的物体保持...

本发明提供一种台系统校准方法，其包括：响应设定点信号相对于编码器栅格移动所述台，并且通过传感器头与所述编码器栅格协作操作测量所述台的位置。台的位置通过台控制器进行控制。寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号。通...

一种投影式光刻仪，包括： 辐射系统，用来提供投影光束； 支承结构，用来支承图案形成装置，所述图案形成装置可根据要求的图案使所述投影光束形成图案； 基片台，用来固定基片； 投影系统，用来将形成图案的光束投影到所述基...

一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被配置和排列为在所述阳极和阴极之间的物质中产生放电形成等离子体从而产生电磁辐射，其特征在于，限定所述放电空间的壁的芯捻表面区域具有将与所述芯捻表面区域相接触的液体从液体容器向所述放电空间传输的芯...

本发明公开了一种通过电操作放电产生辐射的设备，所述设备具有第一电极（喷嘴２１ａ产生）、第二电极和电容器组（２４）。该电极被彼此间隔一定距离配置以便允许等离子体激发。该电容器组的第一终端（Ａ）电连接到该第一电极而第二终端（Ｂ）电连接到该第...

一种用来将贮藏箱中的一个或多个基片或掩模传送到一个设备或装置的方法，反之亦然，所述设备或装置用来处理、加工或使用所述基片或掩模，所述贮藏箱包括一个含有一个可打开的盖部件的盖子。该方法包括将所述贮藏箱提供到所述设备或装置的封闭的保护性环境...