【技术实现步骤摘要】
,计算机程序和基准衬底的制作方法
本专利技术涉及用于检测在光刻处理设备中使用的图案形成装置中的错误的方法，该设备包括用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用来依照所期 望的图案构图投射光束；用于放置衬底的衬底台面；和用于将被组成图案的光束投射到衬底的目标区域上的投射系统。
技术介绍
这里所使用的术语"图案形成装置"应该被广泛解释为指的是可用于 对应在衬底的目标区域中待建的图案，赋予入射辐射光束以组成图案的横 断面的装置；术语"光阀"也被用于上下文中。总体上，所述的图案与目 标区域中将被创建的器件中的特殊功能层相对应，例如集成电路或其它器 件(参见下文)。这种图案形成装置的例子包括-掩模。掩模的概念在光刻法中是众所周知的，并且其包括诸如二元 的，交互相移的，和衰减相移的掩模类型，以及各种混合的掩模类型。在 辐射光束中放置这种掩模可引起照射到掩模的辐射光束，依照掩模上的图 案来有选择地透射(在透射式掩模情况下)或者反射(在反射式掩模情况 下)。就掩模来说，所述支撑结构一般是掩模台面，其能够确保所述掩模 被保持在入射辐射光束中...
【技术保护点】
一种检测图案形成装置中的缺陷的方法，包括以下步骤： 在光刻处理过程中，使用图案形成装置来在一种基准衬底上印刷一种基准图形； 接着在光刻处理过程中，使用同一所述图案形成装置来在一种不同于所述基准衬底的生产衬底上曝光一种用于制造器件 的图案； 在光刻处理过程中，使用同一所述图案形成装置来在一种测试衬底上印刷一种测试图案； 比较所印刷的测试图案和所印刷的基准图案，以检测出所述图案形成装置中的缺陷， 所述基准图案被印刷在基准衬底上的多个不同位置上； 在比较已印刷的测试图案和已印刷的基准图案中，通过至少一个光学缺陷...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：JE范德沃尔夫，AJ穆德，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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