光刻方法和设备技术

本发明专利技术公开了一种光刻方法和装置。所述光刻方法包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间－温度特性的信号的步骤，参考所述光学元件的一部分的想要的时间－温度特性来实施控制，所述信号的控制是使得实际的时间－温度特性的改变领先于想要的时间－温度特性的相关改变。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻方法和设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于将对应于待形成在所述IC的单层上的电路图案的图案在辐 射束的横截面上赋予辐射束。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例 如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供 到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻 目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案 一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中， 通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的 方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底 的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。在半导体制造工业中不断需要更小的特征并且需要不断地提高特征的密度。临界 尺寸(CD)快速地减小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻方法，包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间－温度特性的信号的步骤，所述信号的控制是使得实际的时间－温度特性的改变领先于所述光学元件的所述部分的想要的时间－温度特性的相关改变。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：M阿柯斯塞，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]