将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法和用于检查物体的检查装置制造方法及图纸

一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法。该方法包括步骤：引导相干辐射束到该物体，相对于物体在入射平面内或外在一定角度上扫描辐射束，以及将被物体散射的辐射成像到探测装置上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术主要涉及一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法，和 一种用于检查物体的检查装置。更具体地，本专利技术涉及一种用于检查例如图案化结构(例如极紫外(EUV)光刻设备的EUV掩模版)的物体上的 污染物颗粒的方法和装置。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上 的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情 况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片) 上的目标部分(例如，包括一部分管芯、 一个或多个管芯)上。通常，图 案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感金属化合物(抗蚀 剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫 描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向("扫描"方向)扫描所 述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一 个目标部分。也能够以通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案 形成装置将图案转移到衬底上。缺陷，例如小的颗粒或其他(例如)由于物体(例如具有图案化表面 的物体，例如EUV掩模版)上的表面缺陷带来的几何像差，将会随机地 散射光。通过将来自物体的被散射的辐射的一部分成像到探测装置上，缺 陷将会照亮形成亮斑。这种斑的光强是颗粒尺寸的衡量标准。此外，将要在EUV设备中通过辐射束进行图案化的衬底的衬底表面应尽可能没有颗 粒。在这点上，就需要检査物体的缺陷。当滤除由可能存在于物体上的周 期图案引起的更高级次的衍射就可以完成这个操作。这种滤波可以通过在 对上述部分进行成像的成像系统的傅里叶平面中引入空间滤波器来完成。 然而，这需要引入相干光，使得衍射能够被滤除掉。通常，使用相干光可 能会引入可能形成散斑的问题，散斑是由于表面不规则产生的，即使这种不规则小于lnm量级。
技术实现思路
本专利技术旨在保持相干光的同时，提供用于表面散斑构成的滤波器。根据本专利技术的一方面，提供一种将来自物体的辐射成像到探测装置上 的方法。所述方法包括步骤引导相干辐射束到所述物体，在相对于所述 物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束，和将被所述物体散 射的辐射成像到探测装置上。根据本专利技术的另一方面，提供一种构造并布置用以检查物体的缺陷或 颗粒的检查装置。检査装置包括光学系统，所述光学系统构造并布置成引 导相干辐射束到所述物体。所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫 描元件构造并布置用以改变所述辐射束相对所述物体的入射角，以便在相 对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束，和探测装 置，所述探测装置构造并布置用以接收被所述物体散射的辐射。根据本专利技术的另一方面，提供一种光刻设备，其包括构造并布置用以 支撑图案形成装置的支撑结构。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的 横截面上赋予所述辐射束以形成图案化辐射束。所述设备还包括构造并布 置用以保持衬底的衬底台，构造并布置配置用以将所述图案化辐射束投影 到所述衬底的目标部分上的投影系统，和构造并布置用以检查所述图案形 成装置和/或所述衬底的缺陷或颗粒的检查装置。所述检査装置包括光学 系统，所述光学系统构造并布置用以引导相干辐射束到所述图案形成装置 和/或所述衬底。所述光学系统包括角度扫描元件，所述角度扫描元件构 造并布置用以相对于所述图案形成装置和/或所述衬底改变所述辐射束的 入射角，以便在相对于所述图案形成装置和/或所述衬底的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束。所述检查装置还包括探测装置，所述探 测装置构造并布置用以接收被所述图案形成装置和/或所述衬底散射的辐 射。附图说明下面仅通过示例的方式，参考附图对本专利技术的实施例进行描述，其中 示意性附图中相应的参考标记表示相应的部件，在附图中 图1示出根据本专利技术的检査装置的实施例的第一示意图； 图2示出根据本专利技术的检查装置的实施例的另一示意图3示出根据本专利技术实施例的光刻设备；图4示出根据本专利技术的检査装置的另一实施例；和图5A和5B示出显示使用根据本专利技术的一方面的方法改善信噪比的图。具体实施例方式图1示出了检查装置ID的实施例，其中相干辐射束1通过光学系统5 引导到物体2，光学系统5构造并布置用以提供辐射束并适当地引导辐射 束l。相干辐射可以通过激光来产生。辐射1在物体2上反射，并且由于 物体表面2上的变化， 一小部分辐射3从物体2上被散射。这些变化可以 由衬底表面变化和/或可能存在于表面上的颗粒引起。在相对于衬底平滑度 的颗粒尺寸(信号)和探测速度(噪声)之间存在折衷(trade off)。通常， 信号-噪声直方图具有正态分布图形。当两个直方图分离时探测可靠性提 高。噪声的一个成因是其通过"散斑"产生，"散斑"是衬底表面纳米结 构所反射的相干光的干涉的结果。即使是最平滑的表面，例如EUV掩模 版，也会产生散斑。最早用以减少散斑的方法是应用非相干光。然而，在 某些情况下，例如由于缺少空间和/或可能因为由于其他用途(例如空间滤 波)而需要相干光，这种方法就不可用。因而，期望在保留相干光作为物 体表面2上的入射光的同时抑制散斑。为了这个目的，根据本专利技术的一方 面，提出在相对于物体2的入射角上扫描辐射束1。入射角可以相当小， 但是可以在入射平面内或外部的大约40。到大约80。范围内变化。通常，辐射束可以限定为掠入射辐射束。通过在入射角上扫描辐射束，由于表面 不规则引起的表面变化，尤其是亚-纳米光滑度的变动将会随角度而变化， 因而将会由成像元件7投影到相对不同的位置上。因而，将会形成散斑分布，并且这将引起变化，这种变化可能是由具有在IOO纳米以下范围的尺 寸(例如20到70nm)的颗粒的散射产生的。在一个实施例中，通过应用 扫描束的高于图像帧速率的扫描速率"记录"这种变化，使得图像被去掉 散斑而被平滑。因此，探测装置4被布置成用于接收一部分被散射的辐射 3。角度扫描元件将在下文参照图4进行讨论，但其通常可以包括振动反 射镜或类似部件。图2示出检查装置ID的另一实施例。虽然根据本专利技术实施例的散斑 滤波方法不限于例如掩模版图案结构8的周期结构，但是本专利技术的实施例 的可能的优点在于，对于周期结构8，反射将会引起周期特性的衍射，使 得周期性图案将会产生固定的傅里叶图案。在这些图案上的颗粒(例如污 染物颗粒)能够通过抑制傅里叶图案来进行探测。如上述的角度扫描元件 6将会引起平移的或加宽的傅里叶图案；这可以削弱信噪比。在这方面，空间滤波可以用来滤波设置在物体2上的周期结构8的衍 射级。在角度扫描元件6扫描移动的情况下通过空间滤波器9同步空间滤 波能够改善信噪比，以优化光输出和改善信噪比。因而，可以设置振动傅 里叶滤波器9，其与具有变化的入射角a的入射束同步。为此，设置同步 装置10以使空间滤波器9与角度扫描元件6同步。在一个实施例中，空 间滤波器9可以设置为自适应滤波器，其与图案结构8自适应地配合并且 与入射辐射束1同步地平移。滤波器可以设置在多个位置上，但是通常被 放置在成像平面外(例如相对于物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种将来自物体的辐射成像到探测装置上的方法，所述方法包括步骤：　引导相干辐射束到所述物体；　在相对于所述物体的入射平面内或外在一定角度上扫描所述辐射束；和　将被所述的物体散射的辐射成像到所述探测装置上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R斯奈欧，AJ布里克，H范布莱格，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]