多头对准系统中的对准头的位置校准技术方案

本发明专利技术公开了在多头对准系统中的对准头的位置校准。具体地，公开了一种校准方法，当在晶片中或晶片上形成电路的光刻过程中执行时其用于在例如用于晶片表面上的标记的测量的多头对准系统中用主对准头对辅对准头进行位置校准。对至少一个辅对准头实施多个偏移量测量，使得可以测量辅对准头相对于主对准头的偏移量，并且用于在随后的晶片测量计算中作为校正数据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及多头对准系统中的对准头的位置校准，尤其涉及多头对准系统中辅对 准头与主对准头的鲁棒位置校准。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例 如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模 或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案 转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层 上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括 所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一 个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部 分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬 底上。为了监测光刻过程，需要测量图案化的衬底的参数，例如形成在衬底上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用一个或更多个主对准头校准一个或更多个辅对准头的方法，其中所述主对准头测量对准标记；至少一个辅对准头测量相同的对准标记；和所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量由在所述对准标记上实施的测量获得。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：兼子毅之，RTP康姆彭，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]