光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

一种光刻投影装置，其中液体供给系统向投影系统（ＰＬ）的最后元件和基底Ｗ间的空隙（２）提供液体。该液体供给系统包括密封构件（４）。采用从密封构件入口（６）到密封构件出口（８）的液流形成液体密封。

【技术实现步骤摘要】
光亥鹏鄉牛鹏方法駄领域本专利技术涉及一种微離和一种膽腊施。
技术介绍
光亥蝶置是一种将所需图^M于基底的耙部上的装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的带腊。在这种情况下，如掩模的构图^g可用于产生对应于IC—个# 的电路图案，该图案可以成像在已織辐射敏鋭才料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一个或者几个部分的管芯(die))。 一m，单一基^#&含相继曝光的相令鹏部6 ^网格。已知的光刻装置包括所谓步进器，其中ilii将，图案一次曝光在耙部上而辐l^—耙 部，还包括所谓扫描装置，其中皿 光束 &^定方向("扫描"方向)扫 描图案，同时沿与駄向平行棘反平行的方向同步扫描基^ 射^~耙部已，出了在^iJS^I中5l^l^f没在一种具有+^高折射率S^体中，比如水，以使其m,系^^元件和基底之间的空间。这样做的目的是 由于曝光射线在液体中具有更短的波长，从而貪滩对更小的特征成像。(也可以将液体的作用看作提髙系统的有^NA和働B麟)。但是，包掛K和悬浮其 中的固体粒子(例如:石英)的其他浸液也可以^ffl。然而，将基底或基底和基底台^A液糊中(参见例如US 4,509,852,其 全文在这里作为参考引入)意,在扫描曝光，中，需要力腿大量的液体。 这需要附加颇3鍋的马达，并且液体中的紊ii^导致不禾鹏不可繊鹏影响已经提出的一种解决方^ 了一种液体供给系统，其只在基底的液体局 部区^和投影系统最后元件与{^液体密封系统的基底(该基底一般具有比 投影系统最后元件更大的表面积)之间内提供液体。^WO99/49504公开了安排J^系统的己提出的一种^;，其^mi作为参考引入。如图2和图3的说明，液体由至少"个入口IN鄉到驗上，雌沿基獻树于最后元件的运动方向衛共，并在经M^系统下后由至^"个出口OUT^除。艮P，当基底絲件下叙方向上被扫描时，在元件的+x侧麟液体，并且在一x侧排赚体。图2表示液体通过入口INil^并在元件另一侧经与低压源连接的出口OUT排除的示意排列。在图2的说明中，液,基底相对于最后元件的运动方向提供，但 5对于本例这并不是必需的。位于最后元件周围的各种方向和数量的入口和出口都是可能的，如图3示出的例子，其中在最后元件周围的每一边鹏了四套常关M样的入口的出口。已经提出的另一鄉决方^ 了一种具有密1#^牛盼液体供给系统，该密封糊牛沿投影系统的最后元件与基底台间的空间边界的至少一部分延伸。图 io 4说明了这样一种解决方案。该密,件虽然^Z方向(光船向)上可能有少许相对运动，但&Y平面上基^对于S^系统静止。在密封构件和基底表面间形成密封。 的密封是非接,密封例如气密封。申请号为03252955.4的欧洲专利公开了例如具有气密封的系统，其全文在这里作为参考弓l入。申请号为03257072,3的欧洲专利公开了一对^0:作台浸没形lJ體。这 15种装置配备有支撑驗的两个工作台。利用没有浸没液体的处于第一位置的进台进行水平测量，利用^&浸、赚体的 第二位置的台进 光。另外，该装置可只有一个工作台。然而，当气密封有效密針液体的同时，也雜其他问题。其需要相对高的气压(具有相对于环^BE强或10(M0000Pa的itftE强)和与^合6n密封 20部件的相对弱的阻尼，其中振动能穿过气密封传递，会对成像系统的性能誠不利影响。由压5蹴动誠的输育铲生在垂l^向上l盈0ran和水平方郞至50nm之间的伺服i^。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于，一种用以在Wt像的基底的表面与，系统的25 ^元件间的空隙容纳液体的有,封。傲照本专利技术实M^其M:明目的的^^^S，包括用于 辐*] ，^ ^系统；用于^f构图^g的^结构，^^1图^§^于根据所需的图^^影 光繊疗构图； 30 用于,S/S的，平台；用于将带图案的3^^到基底的勒部上的繊系统；用于舒; 述t^系统最后元件和,基底之间的空^^液体的液体供给 系统，離征在于臓液体供给系鄉括5 沿戶;^^系统的i^元件与ra基底台间空隙M界的至少一部分延伸的密封构件；和借助液流^^M密i^l件和基/^面间形成密封的液体密封部件。 这种结构具有不需要气体供给的优点。因jltM不会在液体中产生由气体供^g成的气泡。实施液体密封可以保持空隙中的液体并防止气体杂质从围^S 10底台的装置的环境中进入。液体还具有良好的阻尼特性，其能,穿过密封的 扰动的传递(例如来自源和液條除的扰动〉。另外，由于已有气体密封就不 需要对该密封 气体出口，因此该密封结构可简化。船卜，液体密封在比相应的气体密封具有更小量禾n/^大间隙髙度时仍有效。在基底、基底台和密封糊牛上的默的间,鹏哽不精确的 ^的效果。is ^ 密封部件鲷于支撑舒腿 ^面上的所述密鹏牛 的流体静力或流,力轴承。用于支,密封的流体静力或流体动力,的设备允许密封 大的间隙范围内起作用，例如大于lmm，伏^^在10资J300 u m 的范围内。该轴承具有刚性并在3个自由Rh具有P鹏，i^3个自由度为垂直 方向(z〉，和关于与Z方向正交的轴旋转。因此其起到对密封构件的悬吊作用20 。■任选地，所述流体静力轴承中的液体压强相对于周围环境压强在100Pa到 100kPa的范围内。环:iH强是指围绕填充空隙液体的装置中的压强。如果该轴 承压强在这个范围内，那么该轴;^it密封根据起到悬吊作用，并比相应的气 体密封传递更少的驗。 25 任选地，所述液体密封糊袍括共用的液体出口，该液体出口用于排除来 自所述空隙和所述液体密封部件的液体。il^液体密封部件和填充空隙的液 ^!^用的液体出口，该结构倉激~^简化。所麟用出口位于所述密封构件面对0f^S底的表面上，并定位 于所还空隙和所述液体密封部件之间。密封中的液体一般比空隙中的液体具有30更高的压强，因此^强梯度 皿给到表面的液,向向内朝光轴运动，以改善密封的效力。ft ，所述共用出口在与所述基底 平行的平面中具有^#面积比液 体入口的横截面积更大。m^l^面积允许在出口中的流动为层状。这减少了填充空啦的液体中的鹏，i^J育树精,生不利和混乱的影响。根据本专利技术的第二方面，,一种光亥lJ&i^S，包括用于，^j^^^射系统；用于支撑构图g的，,，TO构图^S用于根据所需的图^1", 光鄉行构用于^ 的基底平台；用于将带图案的棘鄉到基底,部上的,系统 用于 述 系统最后元件和皿基底之间6^隙 液体的液体供给 系统，其舰在于臓液体供给繊包括-沿ff^ia^系统的最后元件与^M基底台间空隙的边界的至少i分延伸的密封构件；其中所述密封构fm括位于戶，密封糊牛面向^^基底的表面上的液体入□。该液体入口的定位允许液m&径向向内的方向流向填充空隙的液体，这减 少了径向向外方向的液流雜供了更有效的密封。腿地，所述密封離^M基驗面上的高度顿腔隙和臓液体入口间的区域的值大于其他区域的值。MM^种方法改变高度,供给的液体压强 以与空隙间液体的更新M相同的3IS减小。这减少了有害振动的传递。也同 样减少了径向向夕卜方向的液流。这是有利的因为在鼓向上鹏的液体必须排 除并因为由例如真空抽i^f除^a:的液体能导，置中的有害振动。ffi^&，所述液体供给^s包^^r^本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：　用于提供辐射投影光束的辐射系统；　用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；　用于保持基底的基底台；　用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；　 用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体供给系统，　所述液体供给系统包括：　沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部分延伸的密封构件；和　用液流在所述密封构件和基底表面间形成密封的液 体密封部件。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：HHM科西，SNL唐德斯，CA胡根达姆，AY科勒斯辰科，ER鲁普斯特拉，H范桑坦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]