衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备技术方案

本发明专利技术涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器（例如预对准单元）传送至第二衬底保持器（例如光刻设备中的衬底台）的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第 一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法以及使其能够执行前述方法 的用计算机可执行代码编码的计算机可读介质。本专利技术还涉及一种用于 基于传送数据的传送衬底的传送系统、 一种包括该传送系统的光刻投影 设备、 一种采用该光刻投影设备制造器件的方法以及使其能够执行上述 器件制造方法的用计算机可执行代码编码的计算机可读介质。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(retide)的图案形成装置 用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬 底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、 一个或多 个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的 辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案 的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步 进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标 部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(扫 描方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描 所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将所述图案从所述图案形成装置转移到所 述衬底上。在采用光刻设备的器件制造方法中，生产中的一个重要因素，即已 正确制造器件的百分比，是被印刷的层和与之相关的先前形成的层之间 的准确度。已知的重叠以及重叠误差预计通常是10nm或者以下。为了达到这样的准确度，衬底应当在很高的准确度下对准将被转移的掩模图案。 为了得到很好的图像清晰度以及层的重叠精度，衬底的被辐射表面 应当准确的放置在支撑面(即衬底保持器)上，并且在曝光的过程中尽 可能的保持其在衬底保持器上的平坦和平稳。通常，为了实现上述目的， 衬底保持器包括具有多个凸出物的平板，凸出物也指节块或突起。在这 种衬底保持器上，衬底可以被放置以使其背面与全部位于明确定义的平 面上的节块形成接触。通过与真空产生装置连接的衬底保持器上的连接 孔，衬底背面可以相对于节块被牢固的夹住。采用这种方式的节块可以 确保仅仅一部分背面区域事实上相对于固体表面而被压住；这样，晶片 背面上的任何微粒污染物的形变效应都被最小化，因为该污染物更有可 能处在节块之间的空隙而不是被压在节块的上表面。但是，如果衬底如上所描述的那样被固定在衬底台上，则衬底将在 节块上弯曲。其结果是在衬底上曝光的图像将局部的偏移。当显影后的 衬底再一次被放置在衬底台上进行第二次曝光时，因为相对于节块的位 置的不同，第二次曝光期间的局部图像的偏移将不同于第一次曝光期间 的局部图像的偏移。因此，重叠误差被引入。由于对更小的图案成像从而制造具有更高密度的器件的持续需求， 迫切需要减小重叠误差，这便带来了在具有节块的衬底台上对衬底的放 置方式进行改进的要求。
技术实现思路
旨在提供一种比已知技术具有更高定位准确度的衬底传送方法和 传送系统。为此，本专利技术提供了一种通过采用基于有效传送数据的传送 单元将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包 括在第一衬底保持器上提供衬底； 测量衬底的位置误差；在己测量的位置误差的基础上计算位置调整数据；根据位置调整数据相对于参考位置移动第二衬底保持器；根据传送数据并通过传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并放置衬底至已移动的第二衬底保持器上。在一个实施例中，本专利技术提供了一种用计算机可执行代码编码的计算机可读介质，当该介质被加载到计算机组件上时，可使计算机组件控制上面所描述的传送方法。另外，在一个实施例中，本专利技术还提供了一种基于有效传送数据来传送衬底的传送系统，该传送系统包括第一衬底保持器，其被配置用作保持衬底；位置传感器，其被配置用作测量位于第一衬底保持器上的衬底的位 置误差；第二衬底保持器，其被配置用作保持衬底；传送单元，其被配置为根据传送数据将衬底从第一衬底保持器传送 至第二衬底保持器；处理器，其通信连接到位置传感器，并被配置为在己测量的位置误 差的基础上来计算位置调整数据；控制单元，其通信连接到处理器，并被配置为根据已计算的位置调 整数据而相对于参考位置移动第二衬底保持器。此外，在一个实施例中，本专利技术还提供了一种光刻投影设备，包括照射系统，其被配置用作提供辐射束；支撑结构，其被配置用作支撑图案形成装置，该图案形成装置用作 将图案在辐射束的截面上赋予辐射束； 衬底台，其被配置用作保持衬底；投影系统，其被配置为将已图案化的辐射束曝光到衬底上； 其中，光刻设备还包括上面所描述的传送系统，而衬底台正是第二 衬底保持器。在一个实施例中，本专利技术还提供了一种包括如上面所描述的釆用光 刻投影设备将已图案化的辐射束投影到衬底上来制造器件的方法。最后，在一个实施例中，本专利技术提供了一种用计算机可执行代码编 码的计算机可读介质，当该计算机可读介质被加载到计算机组件中时， 其能够使计算机组件控制上面所描述的制造器件的方法。附图说明现在仅通过举例并参考所附示意图来描述本专利技术的实施例，附图中 相应的附图标记表示相应的部分，且其中图l描述了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备； 图2a-2c示意性的描述了本领域所公知的在衬底台上衬底的放置形式；图2d示意性的描述了如图2c所示的在衬底台上放置的衬底的细节； 图3示意性的描述了一种可以在本专利技术实施列中使用的传送系统； 图4示意性的描述了一种根据本专利技术实施例的将衬底从第一衬底保 持器传送至第二衬底保持器的方法；图5示意性的描述了一种可用于本专利技术实施例的计算机组件的实施例。具体实施例方式图l示意性地示出根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述设备包括照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B (例如，紫外(UV)辐射或极紫外(EUV)辐射)；支撑结构(例如掩模台)MT，配置用于支撑图案形成装置(例如 掩模)MA并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第 一定位装置PM相连；衬底保持器，例如衬底台(例如晶片台)WT，配置用于保持衬底 (例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；以及投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统PS配置用 于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或多根管芯)上。所述照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、 磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引 导、成形、或控制辐射。支撑结构支撑，即承受图案形成装置的重量。支撑结构以依赖于图 案形成装置的取向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在 真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置。所述支撑结构可以采 用机械的、真空的、静电的或其他夹持技术保持图案形成装置。所述支 撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。 所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投 影系统)。在这里任何使用的术语掩模版或掩模都可以认为与更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包括：　在所述第一衬底保持器上提供所述衬底；　测量所述衬底的位置误差；　在所测量的所述位置误差的基础上计算位置调整数据；　根据所 述位置调整数据相对于参考位置移动所述第二衬底保持器；　根据所述传送数据并采用所述传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并且将所述衬底放置到已移动的所述第二衬底保持器上。

【技术特征摘要】
US 2007-10-10 60/960,7011. 一种采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包括在所述第一衬底保持器上提供所述衬底；测量所述衬底的位置误差；在所测量的所述位置误差的基础上计算位置调整数据；根据所述位置调整数据相对于参考位置移动所述第二衬底保持器；根据所述传送数据并采用所述传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并且将所述衬底放置到已移动的所述第二衬底保持器上。2. 根据权利要求l的方法，其中该方法还包括以下步骤，在所述测 量之后将所测量的所述位置误差划分为第一部分和第二部分； 在所述传送数据和位置误差的所述第一部分的基础上，计算修正的 传送数据；以及其中，该计算位置调整数据的步骤基于所测量的位置误差的所述第 二部分，且所述传送步骤根据所述修正的传送数据来执行。3. 根据权利要求2的方法，其中所述划分步骤通过下述步骤执行 如果位置误差保持低于预先设定的阈值误差，则将整个位置误差指定为第一部分；以及否则，将预先设定的阈值误差指定为第一部分并且将整个位置误差与预先 设定的阈值误差之间的差值指定为第二部分。4. 根据权利要求1-3中任何一项所述的方法，其中位置误差是通过 偏心传感器测量到的偏心误差。5. 根据权利要求1-3中任何一项所述的方法，其中位置误差可划分 为通过偏心传感器测量所得的偏心误差和通过取向传感器测量所得的取 向误差。6. —种用计算机可执行代码编码的计算机可读介质，当其被加载到 计算机组件上时，其能够使计算机组件控制根据权利要求1-5中任何一项所述的传送方法。7. —种基于有效传送数据来传送衬底的传送系统，该传送系统包括第一衬底保持器，其被配置用作保持衬底；位置传感器，其被配置用作测量放置在所述第一衬底保持器上的所 述衬底的位置误差；第二衬底保持器，其被配置用作保持衬底；传送单元，其被配置为根据所述传送数据将所述衬底从第一衬底保 持器传送至第二衬底保持器；处理器，其与所述位置传感器进行通信，并被配置为在所测量的所 述位置误差的基础上来计算位置调整数据；控制单元，其与所述处理器进行通信，并被配置为根据所计算的所 述位置调整数据相对于参考位置移动所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：JAM阿尔贝蒂，GPM范努恩，FE格伦斯密特，RTP孔佩，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]