一种光刻投射装置包括：　　　　一个辐射系统，用于提供投射的辐射光束；　　　　一个支撑结构，用于支持构图部件，其中该构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；　　　　一个用于固定基底的基底台；　　　　一个投射系统，用于将带有图案的光束...

一种调准装置，包括：　　　　衬底台，用于固定带有衬底标记的衬底，其中衬底标记可位于距所述衬底的其余表面不同的水平面上；和　　　　调准系统，使用辐射调准光束检测参考标记和所述衬底标记之间的对准状况；　　　　其特征在于，当检测对准状况时，一...

一种用于通过静电力将制品固定在支撑台上的夹盘，所述制品为：　　　　－将在制造设备中采用光刻投影技术来加工的衬底；或　　　　－光刻投影装置、掩膜处理装置如掩膜检查或清洁装置、或者掩膜制造装置中的光刻投影掩膜或掩膜坯件；　　　　所述夹盘包括...

一种光刻投影装置，包括：　　　　－一辐射系统，用于提供投影辐射光束；　　　　－一支撑结构，用于支持构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图；　　　　－一基底台，用于固持基底；　　　　－一投射系统，用于将形成图案的光束投射...

一种包含一光学元件的ＥＵＶ光刻装置，所述光学元件的表面被改进以减小由分子污染物带来的反射率降低的影响。改进的表面包含一自聚集单层。

一种通过从物体表面上去除微粒来清洗物体表面的方法，包括步骤：　　　　－提供以气密方式密封的腔；　　　　－将物体放到所述腔中并使待清洗的表面暴露出来；　　　　－密封所述腔；和　　　　－将所述腔内的气压降低到较低的压力，　　　　其特征在于，...

在用于光刻装置的吹扫气系统中，只要杂质水平降低到阀值以下，就充分地降低系统的吹扫气流率。这种控制可以根据探测到的杂质水平或时间表来进行。

本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基...

一种光刻投影设备，包括：　　　　－辐射系统，用于提供辐射的投影光束；　　　　－用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图形对投影光束进行构图；　　　　－用于保持基底的基底平台；　　　　－投影系统，用于将构图了的光束投射到基底的...

一种光刻投射装置，包括：　　　　－将辐射源（６）发射的辐射形成辐射投射束（６’）的辐射系统（３，４）；　　　　－构造成保持构图部件、使构图部件被投射束照射以对投射束进行构图的支撑结构（１５）；　　　　－构造成保持基底的基底台（２０）；和...

一种光刻投射装置（１），包括：具有辐射源（６）以形成辐射投射束（６）的照明系统（３，４），构造成保持构图部件、使构图部件被投射束照射以对投射束进行构图的支撑结构（１５），构造成保持基底的基底台（２０），和构造 ...

一种用于光刻装置的对准系统，包括：　　　　具有第一波长和第二波长的对准辐射源；　　　　检测系统，包括第一波长通道和第二波长通道，设置第一波长通道接收所述对准标记第一波长处的对准辐射，设置第二波长通道接收来自所述对准标记第二波长处的对准辐...

一种光刻投影装置包括：　　　　－一辐射系统，用于提供辐射投影束；　　　　－一支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于依照一想要的图案对投影束进行构图；　　　　－一基底台，用于支撑一基底；　　　　－一投影系统，用于将构成一定图...

一种光刻投影装置，包括：　　　　－用于提供射线投影束的一辐射系统；　　　　－支撑图案形成部件的一支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；　　　　－用于保持基底的一基底台；　　　　－一投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基...

一种光刻投射装置，包括：－辐射系统，用于提供辐射的投射束；－支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想图案而对投射束构图；－基底台，用于支撑基底；－投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上； ...

一种包含阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成在所述阳极和所述阴极之间的放电空间的物质中的放电元件内产生放电，以形成等离子体，从而产生电磁辐射，其特征在于，所述辐射源包括多个放电元件。

一种光刻投影装置，包括：　　　　辐射系统，可提供投影光束；　　　　支承结构，可支承形成图案机构，所述形成图案机构可根据希望图案使所述投影光束形成图案；　　　　基片台，可固定保持基片；　　　　投影系统，可将形成图案的光束投影到所述基片的目...

一种光刻投影装置，包括：　　　　辐射系统，可提供投影光束；　　　　支承结构，可支承形成图案机构，所述形成图案机构可根据希望的图案使所述投影光束形成图案；　　　　基片台，可固定保持基片；　　　　投影系统，可将形成图案的光束投影到所述基片的...

一种光刻投射装置，包括：　　　　辐射系统，用来提供辐射投射束；　　　　第一目标台，用来支撑构图部件，该构图部件用于依照所需图案对所述投射束构图；　　　　第二目标台，用来保持一基底；　　　　投射系统，用来将带图案的射束投射在所述基底的靶部...

一种器件制造方法，包括步骤：　　　　提供具有第一和第二表面的第一衬底；　　　　使所述衬底的所述第一表面形成具有至少一个倒转对准标记的图案；　　　　在所述对准标记上提供保护层；　　　　将所述第一衬底的所述第一表面粘合到第二衬底上；　　　　...