【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻投影装置中的波前象差的测量，尤其是光刻投影装置，该装置包括-用于提供射线投影束的辐射系统；-用于支撑图案形成部件的支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；-用于保持基底的基底台；-投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基底的目标部分上。
技术介绍
此处所用的术语“图案形成部件”泛指可在入射的射线束的横截面上形成图案的部件，该图案与在基底的目标部分所产生的图案相对应；术语“光阀”也可用在这方面。一般来说，所述的图案会对应于在目标部分中所产生的装置内的特定功能层，例如集成电路或其它的装置(见下文)。此类图案形成部件的示例包括-掩模。掩模的概念在光刻领域是众所周知的，它包括各种类型的掩模，例如二元的、交替相移的和衰减相移的，还有各种混合类型的掩模。这种掩模在射线束中的位移会根据其上的图案使投射到掩模上的射线有选择地透射(在采用透射掩模的情况下)或反射(在采用反射掩模的情况下)。就掩模而言，支撑结构一般是掩模台，该掩模台可以确保掩模保持在入射的射线束中的指定位置，还可以确保掩模在需要时相对于光束移动。-可编程的镜子阵列(mirror a...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻投影装置，包括-用于提供射线投影束的一辐射系统；-支撑图案形成部件的一支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；-用于保持基底的一基底台；-一投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基底的目标部分上，-一测量系统，其特征在于，所述测量系统包括-一衍射元件和一用于在投影系统的光瞳中增加射线的光瞳填充的结构，该元件和结构都可移动地进入辐射系统与投影系统之间的投影束；-用于检测已穿过投影系统的射线以测量投影系统波前象差的一传感器组件。2.根据权利要求1所述的光刻投影装置，其特征在于，所述传感器组件适于测量投影系统的波前象差。3.根据权利要求1和2所述的光刻投影装置，其特征在于，用于增加光瞳填充的结构包括一种用于漫射射线的结构。4.根据权利要求3所述的光刻投影装置，其特征在于，单个部件具有衍射元件和漫射射线结构的两种功能。5.根据权利要求3或4所述的光刻投影装置，其特征在于，衍射元件包括一反射光栅，该光栅中的反射部分包括用于漫射射线的结构。6.根据权利要求3、4或5所述的光刻投影装置，其特征在于，用于漫射射线的结构包括一个高度随机交错的反射部分的阵列。7.根据权利要求6所述的光刻投影装置，其特征在于，每个反射部分包括一种多层结构。8.根据权利要求3至7中任何一项所述的光刻投影装置，其特征在于，用于漫射射线的结构包括低分辨率吸收的特征。9.根据权利要求3至8中任何一项所述的光刻投影装置，其特征在于，衍射元件包括一透射光栅，所述测量系统还包括一面用于引导投影束以从后面照射该光栅的镜子，其中用于漫射射线的结构包括该镜子中的多个缺陷。10.根据权利要求9所述的光刻投影装置，其特征在于，所述镜子为曲面以提供聚焦效应。11.根据权利要求1-8中任何一项所述的光刻投影装置，其特征在于，衍射元件包括一透射光栅，测量系统还包括一面用于引导投...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·范德拉安，J·J·M·巴瑟曼斯，A·J·J·范蒂塞多克，M·H·A·里德斯，J·H·J·穆尔斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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