光刻投射装置及器件制造方法制造方法及图纸

一种光刻投射装置，包括：－辐射系统，用于提供辐射的投射束；－支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想图案而对投射束构图；－基底台，用于支撑基底；－投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上； 其特征在于供应装置用于向所述装置中的空间供应以下至少一个：一种或多种全卤Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷烃；以及一种或多种化合物，所述化合物基本上由一个或多个氮原子以及从氢、氧和卤素中选择的一种或多种原子构成。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施例涉及一种光刻投射装置，包括-辐射系统，用于产生辐射的投射束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想图案而对投射束构图；-基底台，用于固定支撑基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上。
技术介绍
这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给入射的辐射束赋予带图案的截面的部件，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在靶部中形成的器件的特殊功能层相应，如集成电路或者其它器件(如下文)。这种构图部件的示例包括掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型和衰减的相移类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性的被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射光束中的理想位置，并且如果需要该台会相对光束移动。程控反射镜阵列。这种设备的一个例子是具有一粘弹性控制层和一反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置的理论基础是(例如)反射表面的寻址区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻投射装置，包括-辐射系统，用于提供辐射的投射束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想图案而对投射束构图；-基底台，用于支撑基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上；其特征在于供应装置用于向所述装置中的空间供应以下至少一个一种或多种全卤C1-C6烷烃；以及一种或多种化合物，所述化合物基本上由一个或多个氮原子以及从氢、氧和卤素中选择的一种或多种原子构成。2.根据权利要求1的装置，其特征在于供应装置用于向所述装置中的空间供应一种组合物，所述组合物基本上由以下至少一个构成一种或多种全卤C1-C6烷烃；以及一种或多种化合物，所述化合物基本上由一个或多个氮原子以及从氢、氧和卤素中选择的一种或多种原子构成；任选地连同N2和/或H2和/或一种或多种惰性气体。3.根据权利要求1或2的装置，其中装置包含一种或多种烷烃和/或一种或多种化合物。4.根据前面任一权利要求的装置，其中一种或多种烷烃包括四氟代甲烷。5.根据前面任一权利要求的装置，其中一种或多种化合物包括一种或多种氢化氮。6.根据前面任一权利要求的装置，其中一种或多种化合物包括氨、二氮烯、联氨及其盐中至少一种。...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·库尔特，A·科勒斯臣科，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：