【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻投影装置，包括-一辐射系统，用于提供辐射投影束；-一支撑结构，用于支撑图案形成装置，该图案形成装置用于依照一想要的图案对投影束进行构图；-一基底台，用于支撑一基底；-一投影系统，用于将构成一定图案的光束投射到基底的一靶部上；-一底座；以及-一平衡块(balance mass)，支撑在所述底座上且可相对于所述底座移动。
技术介绍
这里所使用的术语“图案形成装置”应被广义地理解为指这样一种装置，该装置可用于使入射辐射束的横截面构成一定图案，该图案对应于将要在基底靶部上生成的图案；本文中也可使用术语“光阀”。通常，所述图案对应于将要在靶部上生成的装置内一特定功能层，例如一集成电路或其它装置(见下)。这种图案形成装置的例子包括-掩模。掩模的概念在光刻领域是公知的，掩模方式包括例如二进位交流相移和衰减相移，以及各种混合掩模方式。将这种掩模放置在辐射束中就使得投射到该掩模上的辐射束依照该掩模上的图形选择性地透射(在透射掩模的情况下)或反射(在反射掩模的情况下)。在掩模的情况下，支撑结构通常为一掩模台，该掩模台确保可将掩模保持在入射辐射束中的理想的位置...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻投影装置包括-一辐射系统，用于提供辐射投影束；-一支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于依照一想要的图案对投影束进行构图；-一基底台，用于支撑一基底；-一投影系统，用于将构成一定图案的光束投射到所述基底的一靶部上；-一底座；以及-一平衡块，支撑在所述底座上且可相对于所述底座移动，其特征在于，利用至少一个弹性支撑件支承所述平衡块，所述弹性支撑件被机械连接到所述平衡块以及所述底座上，且所述弹簧支撑件具有至少两个枢转点。2.根据权利要求1所述的光刻投影装置，其特征在于，当所述平衡块自所述枢转点垂直对齐的一平衡位置移动时，在所述平衡块的重力作用下产生一作用给所述平衡块且沿所述平衡块移动方向的水平力。3.根据权利要求2所述的光刻投影装置，还包括弹性装置，用于给所述平衡块提供一抵销力，该抵销力的方向与所述由重力产生的水平力的方向相反。4.根据权利要求3所述的光刻投影装置，其特征在于，所述枢转点为铰链。5.根据权利要求3或4所述的光刻投影装置，其特征在于，所述弹性装置包括连接在所述平衡块与所述底座之间的弹簧。6.根据权利要求3至5任一项所述的光刻投影装置，其特征在于，所述铰链为弹簧铰链，所述铰链构成了至少所述弹性装置的一部分。7.根据权利要求3所述的光刻投影装置，其特征在于，每个支撑件为一弹性杆件，所述弹性杆件提供了所述弹性装置，且所述弹性件被构造为使所述至少两个枢转点与所述平衡块相距不同的距离。8.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·贾科布斯，H·H·M·科西，P·M·H·沃斯特斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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