光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件制造方法及图纸

本发明专利技术披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投射装置，包括具有辐射源的照射系统，用于产生辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件通过投射光束照射而对所述投射光束构图；基底台，用于固定基底；
技术介绍
投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。这里使用的术语“构图部件”应广意地解释为能够给入射的辐射束赋予带图案的截面的部件，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在靶部中形成的器件的特殊功能层相应，如集成电路或者其它器件(如下文)。这种构图部件的示例包括掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型和衰减的相移类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性的被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射光束中的理想位置，并且如果需要该台会相对光束移动。程控反射镜阵列。这种设备的一个例子是具有一粘弹性控制层和一反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置的理论基础是(例如)反射本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于反射电磁辐射的反射器装置（１０），该反射器装置（１０）包括至少一个第一反射器（２１）和一个第二反射器（２２），所述第一发射器（２１）和所述第二反射器（２２）沿光轴（Ｏ）方向延伸，具有反射面（２６，２７）和背面（２４，２５），在该装置（１０）中，垂直于光轴（Ｏ）并与所述反射器（２１，２２）相交的虚线（Ｌ），与所述第一反射器（２１）在距离光轴（Ｏ）的第一距离（ｒ１）处相交，与所述第二反射器（２２）在距离光轴（Ｏ）的第二距离（ｒ２）处相交，第一距离（ｒ１）大于第二距离（ｒ２），由光轴上一点产生的光线被第二反射器（２２）切断，并反射到第一反射器（２１）的反射面上，该光线确定所述反射器（２１，２２）...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：LP巴克科，J乔克斯，FJP舒厄曼斯，HM维斯塞，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]