【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种器件制造方法，包括步骤提供基片，所述基片至少部分被光敏感材料层覆盖；利用辐射系统提供投影光束；提供至少一个形成图案机构，其包括器件图案；使用所述至少一个形成图案机构，使所述投影光束带有所述器件图案；将带有图案的投影光束投射到光敏感材料层的多个目标部分。本专利技术还涉及通过所述方法制造的器件，和一种使投影光束具有器件图案的光刻投影掩模。
技术介绍
本文使用的术语“图案形成机构”应广义地理解为可用来使入射光束的断面形成图案的装置，该图案对应于在基片目标部分产生的图案；在本文中也可以使用“光阀”这一术语。一般地，所述图案将对应于在目标部分制造的器件，如集成电路或其它器件(参见下文)，的特定功能层。这种图案形成机构的示例包括掩模，掩模的概念在光刻法中为大家所熟知，掩模类型包括，如双体、交变相移和衰减相移，以及各种混合的掩模类型。将这样的掩模放置在光束中会使照射到掩模上的光束根据掩模图案产生选择性透射(在透射式掩模的情况下)或选择性反射(在反射式掩模的情况下)。对于掩模来说，支承结构通常是掩模台，可确保掩模固定在入射光束中要求的位置，而且还可以按要求相...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种器件制造方法，包括步骤提供基片，所述基片至少部分被光敏感材料层覆盖；利用辐射系统提供投影光束；提供至少一个形成图案机构，其包括器件图案；使用所述至少一个形成图案机构，使所述投影光束带有所述器件图案；将带有图案的投影光束投射到光敏感材料层的多个目标部分；其特征在于，所述器件图案具有至少一个基准标记，在确定所述多个目标部分中两个的相对位置的步骤，测量所述两个目标部分的所述至少一个基准标记是否对准。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多个目标部分对接或在边界互相重叠，投影到所述目标部分的所述器件图案具有至少一个与各边界相连的基准标记。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基...
【专利技术属性】
技术研发人员：K·F·贝斯特，J·J·康索利尼，A·弗里滋，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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