【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻投影装置，它包括一辐射系统，用来提供辐射投影束；一支撑结构，用来支撑作图装置，此作图装置用来按要求图形对投影束作出图案；一衬底台，用来保持衬底；一投影系统，用来将已作图的束投影到衬底的目标部分；上述辐射系统还包括一照明系统，用来调整辐射束，以提供调整好的辐射束对作图装置照明；以及一束传送系统，它包含一些改变方向元件，用来改变束的方向并将它从辐射源传送至照明系统。
技术介绍
这里所用的“作图装置”一词应从广义上理解为可以赋于入射辐射束一个带图形的截面的装置，此带图形的截面相应于将要在衬底目标部分产生的图形；在这个意义上也可以采用“光阀”这个词。通常该图形与将要在目标部分产生的器件中的一个特定功能层相对应，此器件可以是集成电路或其它的器件(见下)。这类作图装置的例子包括掩模。掩模的概念在光刻中是周知的，它包括二进制型，交替相移型，衰减相移型，以及各种混合掩模类型。将此掩模放在辐射束内能让照射到掩模上的辐射束按照掩模上的图形有选择性地透射(对于透射掩模)或反射(对于反射掩模)。在掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它确保可将掩模保持在入射辐...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻装置，包括-一辐射系统，用来提供辐射投影束；-一支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用于按所需的图形对投影束作图；-一衬底台，用来保持衬底；-一投影系统，用来将已作图的束投影到衬底的目标部分上；该辐射系统还包括一照明系统，用来调整辐射束，以提供一已调整的辐射投影束，使它能为作图装置照明；一束传送系统，包括一些改变方向的元件，用以改变束的方向并将束从辐射源传送至照明系统；其特征在于该辐射源被安置成能提供具有预定极化态的束，而改变方向的元件被安置成能相对于辐射束的预定极化态提供最小的辐射损耗。2.如权利要求1的光刻装置，其中改变方向的元件为介质镜元件，而束被安置成相对于每个镜元件具有S极化态。3.如上面任一权利要求所述的光刻装置，其中所述束传送系统至少包含一块极化板，用来改变辐射束的极化态。4.如权利要求3的光刻装置，其中极化板为半波长板。5.如权利要求3-4的光刻装置，其中极化板与至少一个镜元件做成一体。6.如权利要求5的光刻装置，其中极化板与至少一个镜元件相连接。7.按上述任一权利要求的光刻装置，其中每个改变方向元件确定一入射面，且所有改变方...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·博特马，E·维雷格登希尔，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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