一种与用以将来自辐射系统的辐射分配到两个或多个独立可控单元阵列的辐射分配系统一同使用的探测器、反馈及补偿系统，各独立可控单元阵列用来使射束图案化，该射束之后被投射到基片上。该探测器确定该辐射分配系统内的辐射损失，并将信息反馈到补偿系统，...

使用一种系统和方法以在衬底上形成特征。该系统和方法包括使用：包括单个可控制元件的第一阵列，该单个可控制元件选择性地定型辐射束；包括多组透镜和孔径光阑的第二阵列，所述透镜和孔径光阑在第一平面内形成来自各个单个可控制元件的图像；包括多个透镜...

本发明提供了包括高度有效的洛伦兹致动器的光刻装置。该洛伦兹致动器包括：排列成Ｈａｌｂａｃｈ结构的主磁铁系统和辅助磁铁系统；导电元件，通过该导电元件流过的电流和分别由主磁铁系统和辅助磁铁系统产生的第一磁场及第二磁场的合成磁场的相互作用而产...

一种用于确定光刻装置的投影系统的像差的方法，该方法包含，投影参考测试图案，投影第二测试图案，测量所述参考测试图案与所述第二测试图案的所得图像中的物体之间的相对偏移，以及使用所述测量结果确定关于该投影系统的像差的信息，其中当使该第二测试图...

中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器（１）的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器（１）处于阻止状态中时，中间掩模版保持器（１）用于至少以形状锁合方式沿至少一个方...

本发明描述了一种用于湿浸式光刻的光刻装置，其中一个补偿控制器控制致动器，以便施加与由供液系统施加给基底的力基本上大小相等、方向相反的力给基底，该供液系统可在投影系统的最后元件和基底之间提供液体。

一种光刻设备和方法，其中使用构图系统来给投射光束在其横截面的图案。通过投射系统把所述光束从照明系统引导在衬底支架上支持的衬底表面的目标部分上。所述目标部分具有相对于所述衬底板的预先确定的空间特征，其适于在所述衬底表面上的所需要曝光的图案...

本发明公开了一种光刻设备，包括：配置成向照明系统提供辐射的辐射源，该辐射源配置成提供第一波长范围和第二波长范围的辐射，该第二波长范围不同于第一波长范围；支撑物，配置成支撑图形化装置，该图形化装置配置成向辐射的横截面传递图形；衬底工作台，...

本发明描述了一种方法，其用于确定通过光刻装置的投影透镜的光的偏振态。将偏振结构布置在光刻装置的投影透镜的目标侧上。通过测量经过偏振结构的光，能够确定关于投影透镜的偏振特征的信息。

一种用于调整由光引擎相对于基板而产生的构图光束在基板上位置的方案。该方案相对单独可控制元件阵列移动聚焦元件阵列，每个聚焦元件将部分构图光束聚焦到基板的点上，以赋予该构图光束图案。

一种根据本发明的实施例，制造在衬底的两面都具有器件层的器件的方法，包括确保衬底在背面曝光期间的移动为正面曝光期间的移动的镜像。因而在这类方法的应用中，与正面曝光相比，背面曝光中的是移动方向特性的定位误差是反转的，从而使得正面和背面之间的...

一种光刻装置，其中包括：用于发射辐射束的照射系统，辐射束包含具有预定波长或预定滤长范围的所需辐射和具有另一波长或另一波长范围的不需要辐射；用于支持图案化结构的支持结构，图案化结构用于将图案传递到辐射束的截面上；用于固定衬底的衬底台；以及...

本发明公开了一种光刻装置，其中供液系统可在投影系统的最后一个元件和基底之间提供浸液。提供一个主动干燥站，用于在浸没基底之后从基底Ｗ或其它目标主动去除浸液。

一种在湿浸式光刻技术中使用的凸块板，其在周边部分的凸块密度比中间部分的凸块密度高，这样当在周边部分施加高压力差时，凸块的压缩基本上仍与中间部分的相同。

包括衬底和并执行至少一步曝光的器件制造系统和方法，将图案化的包括多个像素的辐射束投射到衬底的目标部分。各步曝光中：（ａ）正常地控制单元，使各像素在该曝光步骤向目标部分提供的辐射剂量不大于预定正常最大剂量；（ｂ）特别地控制单元，使至少一个...

一种辐射系统，包括一用于产生辐射束的辐射发生器、一源、一用于接收辐射束并提供辐射投射束的照明系统。该照明系统包括用于测量辐射束相对于照明系统的位置和倾斜度至少之一的束测量系统，以及用于将辐射束部分截面重定向到束测量系统的投射装置。束测量...

本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上...

本发明提供了一种具有改进的传送单元的光刻装置。该光刻装置包括一进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元，其中该处理单元包括一提供辐射光束的照射系统，一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件可将期望的图案赋予给辐射光束，一配置成保持基底的基...

本发明提供一种压电致动器系统。压电致动器系统包括大量可以伸长和切变的压电致动器。利用伸长和切变，压电致动器分别响应于第一和第二控制信号而抓紧和移动物体。物体可能的位移受压电致动器的最大切变的限制。为了增大可能的位移，可以控制压电致动器进...

一种光刻装置和方法，其中照射系统提供辐射投射光束，构图系统赋予该光束带图案的横截面，投影系统将带图案的光束投射到基底台上支撑的基底的目标部分上。该投影系统包括与基底分开设置的透镜阵列，因此该透镜阵列中的每个透镜都将带图案的光束的各个部分...