光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种具有改进的传送单元的光刻装置。该光刻装置包括一进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元，其中该处理单元包括一提供辐射光束的照射系统，一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件可将期望的图案赋予给辐射光束，一配置成保持基底的基底保持架，以及一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统。光刻装置还包括一传输单元，其包括一单个机械手。该单个机械手配置成将第一可换物件从装载站传输到处理单元和将第二可换物件从处理单元传输到卸载站。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻装置和相关的器件制作方法。
技术介绍
光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，构图部件，如掩模可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一个或者多个管芯)。一般地，单一的基底将包含相继曝光的相邻靶部的网格。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到靶部上而辐射每一靶部，已知的光刻装置还包括所谓的扫描器，其中通过在投射光束下沿给定的方向(“扫描”方向)扫描所述图案，并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一靶部。处理基底要求将待处理的基底提供给光刻装置，在处理之后，从装置中移除处理过的基底。一般地，可以用轨道将待处理的基底输送到装载站。从该装载站，一个接一个地使基底移动到光刻装置的处理单元，并在其中进行实际的处理。然后通常是一个接一个地使处理过的基底从光刻装置的处理单元移动到卸载站。一般地轨道可以从卸载站取出处理过的基底。将基底提供给光刻装置并从光刻装置移除基底的其它方法对本领域技术人员是公知的，例如使用一前开口的标准容器。该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：（ａ）一配置成进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元，该处理单元包括：一调节辐射光束的照射系统；一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件将期望的图案赋予给辐射光束；一配置成保持基底的基底保持架；以及一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；以及（ｂ）一传输单元，其包括一单个机械手，机械手配置成将第一可换物件从装载站传输到处理单元，和将第二可换物件从处理单元传输到卸载站。

【技术特征摘要】
US 2004-6-21 10/871528;US 2004-8-27 10/9275321.一种光刻装置，包括(a)一配置成进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元，该处理单元包括一调节辐射光束的照射系统；一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件将期望的图案赋予给辐射光束；一配置成保持基底的基底保持架；以及一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；以及(b)一传输单元，其包括一单个机械手，机械手配置成将第一可换物件从装载站传输到处理单元，和将第二可换物件从处理单元传输到卸载站。2.如权利要求1所述的光刻装置，其中机械手包括一第一物件输送装置，第一物件传送装置将第一可换物件从装载站传输到处理单元，以及一第二物件输送装置，第二物件传送装置将第二可换物件从处理单元传输到卸载站。3.如权利要求2所述的光刻装置，其中第一物件输送装置与第一臂连接，第二物件输送装置与第二臂连接，该第一臂和第二臂可围绕旋转轴旋转。4.如权利要求3所述的光刻装置，其中第一臂和第二臂中的至少一个可沿一至少大体上与旋转轴平行的方向移动。5.如权利要求3所述的光刻装置，其中旋转轴具有相对处理单元固定的位置。6.如权利要求3所述的光刻装置，其中以将第一臂和第二臂相对彼此固定，使得在它们之间形成一恒定的角度。7.如权利要求3所述的光刻装置，其中第一臂配置成当第一可换物件从装载站传输到处理单元时沿第一方向围绕旋转轴旋转，第二臂配置成当第二可换物件从处理单元传输到卸载站时沿第二方向围绕旋转轴旋转，其中该第一旋转方向与第二旋转方向相同。8.如权利要求3所述的光刻装置，其中第一臂配置成当第一可换物件从装载站传输到处理单元时沿第一方向围绕旋转轴旋转，第二臂配置成当第二可换物件从处理单元传输到卸载站时沿第二方向围绕旋转轴旋转，其中该第一旋转方向与第二旋转方向相反。9.如权利要求6所述的光刻装置，其中装载站、卸载站、处理单元和机械手相对彼此布置成使得第一可换物件从装载站传输到处理单元以及第二可换物件从处理单元传输到卸载单元大体上是在围绕旋转轴的单一旋转的第一臂12和第二臂22中进行的。10.如权利要求3所述的光刻装置，其中第一臂和第二臂中的至少一个的形状配置...

【专利技术属性】
技术研发人员：JJ库伊特，PR巴特拉，DJ比沃伊特，JF霍格坎普，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]