光刻装置以及器件制造方法制造方法及图纸

一种包括照射系统的光刻装置，所述照射系统提供辐射的投射光束，所述光束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量，用以再现掩模上形成的特征。根据本发明专利技术的光刻装置包括具有可调节滤波装置的照射系统，该装置用于过滤所述辐射光束，在使用时设置为选择性地调节所述光束中所述第二辐射分量的比例。本发明专利技术的装置对在掩模上形成的隔离和密集特征提供了改进的再现性。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影装置，包括-用于提供辐射投射光束的照射系统，所述辐射束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统。
技术介绍
这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特殊功能层相对应(如下文)。这种构图部件的示例包括-掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射辐射束中的所需位置，并且如果需要该台会相对光束移动；-可编程反射镜阵列。这种设备的一个例子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：－用于提供辐射投射光束的辐射系统，所述辐射束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量；－用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；－用于保持基 底的基底台；－用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统；其特征在于所述照射系统包括用于过滤所述辐射光束的可调节滤波装置，该滤波装置在使用时设置为选择性地调节所述光束中所述第二辐射分量的比例。

【技术特征摘要】
EP 2003-8-29 03077702.31.一种光刻装置，包括-用于提供辐射投射光束的辐射系统，所述辐射束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统；其特征在于所述照射系统包括用于过滤所述辐射光束的可调节滤波装置，该滤波装置在使用时设置为选择性地调节所述光束中所述第二辐射分量的比例。2.根据权利要求1的光刻装置，其中所述可调节滤波装置是一种空间滤波器，在使用中置于由所述辐射投射光束横穿的位置。3.根据权利要求2的光刻装置，其中所述照射系统包括用于使所述光束会聚在所述位置的光束会聚装置。4.根据前面任一项权利要求的光刻装置，其中所述可调节滤波装置是针孔。5.根据权利要求1的光刻装置，其中所述可调节滤波装置是光谱过滤...

【专利技术属性】
技术研发人员：J布鲁巴奇，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]