【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
光刻设备是将所希望的图案应用到基板的目标部分上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)、平板显示器和包括精细结构的其它器件的制造中。在常规的光刻设备中，可使用可选地称为掩模或标线片(reticle)的构图装置，来生成对应于IC(或其它器件)的单层的电路图案，并可以将该图案成像到具有一层辐射敏感材料(例如，抗蚀剂)的基板(例如，硅晶片或玻璃板)上的目标部分(例如，包括一个或几个芯片的部分)上。代替掩模，构图装置可包括生成电路图案的单个可控元件阵列。通常，单一基板包含被相继曝光的相邻目标部分的网。公知的光刻设备包括步进机和扫描仪，在步进机中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分，在扫描仪中通过经由光束在给定的方向(“扫描”方向)上扫描图案来照射每个目标部分，同时同步地扫描与该方向平行或反平行的基板。作为构图辐射束的单个可控元件阵列，已提议使用具有粘弹性的(例如，具有粘性以及弹性性质)控制层的矩阵可寻址面和反射面。当寻址粘弹性的控制层时，其表面变形以形成例如正弦曲线。因为正弦曲线状的反射面用作光栅，所以支持这种设备...
【技术保护点】
一种光刻设备，包括：提供辐射束的照明系统；构图所述束的反射器阵列，每个反射器都具有定位反射器的相关激励器，且反射器阵列具有多个控制区，每个控制区都包括一行或多行反射器；向激励器提供控制信号的控制器，以便将在多个控制区 的每一个中的一行或多行反射器的交替反射器行设置为第一公共位置，并将在多个控制区中剩余的一行或多行反射器设置为第二公共位置；以及投影系统，将构图的束投影到基板的目标部分上。
【技术特征摘要】
US 2004-8-17 10/9195301.一种光刻设备，包括提供辐射束的照明系统；构图所述束的反射器阵列，每个反射器都具有定位反射器的相关激励器，且反射器阵列具有多个控制区，每个控制区都包括一行或多行反射器；向激励器提供控制信号的控制器，以便将在多个控制区的每一个中的一行或多行反射器的交替反射器行设置为第一公共位置，并将在多个控制区中剩余的一行或多行反射器设置为第二公共位置；以及投影系统，将构图的束投影到基板的目标部分上。2.根据权利要求1的光刻设备，其中多个控制区的每一个都包括一行或多行反射器中的至少三个相邻的反射器。3.根据权利要求1的光刻设备，其中该一行或多行反射器的每一行都包括至少三个相邻的反射器。4.根据权利要求1的光刻设备，其中从控制器向在多个控制区的各个中对应于一行或多行反射器的交替行反射器的激励器提供共同的控制信号，以设置第一公共位置。5.根据权利要求4的光刻设备，其中从控制器向在多个控制区中与剩余的一行或多行反射器相关的激励器提供第二共同的控制信号，以设置第二位置。6.根据权利要求1的光刻设备，其中从控制器向与在多个控制区的第一个中的所有反射器相关的激励器提供共用控制信号，以设置反射器的位置；与在多个控制区的第一个中的交替行中的反射器相关的激励器激励在第一方向上响应控制信号的反射器；以及与在多个控制区的第一个中的剩余反射器相关的激励器激励在第二方向上响应控制信号的剩余反射器。7.根据权利要求6的光刻设备，其中当激励时，在多个控制区的第一个中的反射器关于各自的倾斜轴旋转；各自的倾斜轴相互平行；以及第一和第二方向是关于倾斜轴的相对旋转。8.根据权利要求1的光刻设备，其中在多个控制区中的反射器关于与第一方向基本平行的各自的倾斜轴旋转；以及设置该一行或多行反射器与第一方向基本垂直。9....
【专利技术属性】
技术研发人员：JJM巴塞曼斯，AJ布里克，PWH德贾格，KZ特鲁斯特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。