平版印刷设备和装置制造方法制造方法及图纸

为了使平版印刷设备的图案支架或衬底台能够具有高加速度和高移动速度，该图案支架和衬底台之一由一个用于相当大的位移的驱动器支承，而省去一个用于精确安置的驱动器。该图案支架和衬底台中的另一个由一个驱动器组件支承，该组件包括一个用于精确安置的驱动器和一个用于相当大的位移的驱动器。通过提供这样一种控制系统而获得图案形成装置和衬底的精确对准，该控制系统适合于安置图案支架和衬底台中的另一个，使得图案支架和衬底台之一的定位误差受到另一个的安置的补偿。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及平版印刷设备和方法。
技术介绍
平版印刷设备是一种将一个所要图案应用到一衬底(通常为该衬底的一个目标部分)上的机器。平版印刷设备例如可以用于制造集成电路(IC)。在那种情况下，可以使用一个或者称为掩模或刻线板的图案形成装置来产生形成于集成电路的单个层上的电路图案。该图案可以转移到衬底(如硅片)上的目标部分(例如包括一个或若干个模具的一部分)上。图案的转移通常通过成像到设置于衬底上的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上而完成。通常，单独一个衬底将包含被相继构造图案的相邻的目标部分的网格。传统的平版印刷设备包括所谓步进器和所谓扫描器，在步进器中，通常在一个时间将一完整图案曝光在该目标部分上而辐照每个目标部分，在扫描器中通过一辐射光束沿给定方向(“扫描”方向)扫描该图案而同时平行该方向或反平行该方向地同步扫描该衬底来辐照每个目标部分。也可以通过将图案压印在衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底上。为了将图案投射在衬度上，希望精确地对准图案形成装置和衬底，也即彼此相对地安置。其次，该图案形成装置和衬底可能需要相对于辐射光束和/或包括在平版印刷设备中的其它装置而被对准。在传统的平版印刷设备中，衬底台和图案支架两者设有一个驱动器组件，其构型可相对于一参考点精确地定位该衬底和图案形成装置。该驱动器组件可包括一长行程驱动器和一短行程驱动器。该长行程驱动器和短行程驱动器操作上联接而能够利用该长行程驱动器在一相当大的距离上移动该衬底或图案形成装置并利用该短行程驱动器精确地定位该衬底或图案形成装置。应当注意，一个用于长距离移动一物体的驱动器如长行程驱动器本身通常不适宜于精确安置。专利技术概要按照本专利技术的一个实施例，本专利技术提供一种平版印刷设备，该设备包括一个被配置来调节一辐射光束的照射系统；一个被构造来支承一图案形成装置的图案支架，该图案形成装置能传递具有其截面图案的辐射光束，以形成一构成图案的辐射光束，该图案支架由一第一驱动器组件可移动地支承，该第一驱动器组件包括一长行程驱动器，用于相对于一固定参考点而定位该图案形成装置；一个被结构来保持一衬底的衬底台，该衬底台由一第二驱动器组件可移动地支承，该第二驱动器组件包括一长行程驱动器和一短行程驱动器，用于相对于该固定的参考点而定位该衬底；一个投射系统，被构造来将该构造图案的辐射光束投射到该衬底的一个目标部分上；以及一个控制系统，包括用于测定该图案形成装置的实际位置的测定系统和操作上连接到该测定系统、第一驱动器组件及第二驱动器组件的控制电路，该控制电路的构型做成定位该图案形成装置而获得一所希望的图案位置；通过比较该所希望的图案位置和瞬时位置而测定一图案定位误差；测定一所要衬底位置而基本上补偿该图案定位误差；以及将该衬底定位在所希望的衬底位置上。按照本专利技术的一个实施例，本专利技术提供一种平版印刷设备，该设备包括一个被构造来调节一辐射光束的照射系统；一个其结构可支承一图案形成装置的图案支架，该图案形成装置能传递具有其截面图案的辐射光束，以形成一构成图案的辐射光束，该图案支架由一第一驱动器组件可移动地支承，该第一驱动器组件包括一长行程驱动器和一短行程驱动器，用于相对于一固定参考点而定位该图案形成装置；一个其结构能保持一衬底的衬底台，该衬底台由一第二驱动器组件可移动地支承，该第二驱动器组件包括一长行程驱动器，用于相对于该固定的参考点而定位该衬底；和一个被构造来将该有图案的辐射光束投射到该衬底的一个目标部分上的投射系统、一个包括一用于测定该衬底的实际位置的测定系统及操作上连接于该测定系统、第一驱动器组件和第二驱动器组件的控制电路，该控制电路的构型做成定位该衬底而获得一所希望的衬底位置、通过比较该所希望的衬底位置和实际位置而测定一衬底定位误差、测定一所希望的图案形成装置的位置而基本上补偿该衬底定位误差，以及将该图案形成装置定位在该所希望的图案形成装置的位置上。按照本专利技术的一个实施例，一种装置制造方法包括用图案形成装置对一辐射光束构造图案而获得一有图案的辐射光束；将该有图案的辐射光束投射在一衬底上，并控制该衬底的位置，该控制包括测定该图案形成装置的实际位置，将该图案形成装置定位在所希望的图案形成装置的位置上；通过比较该所希望的图案形成装置的位置和该装置的实际位置而测定一个图案形成装置的定位误差；测定一个所希望的衬底位置而基本上补偿该图案形成装置的定位误差；以及将该衬底定位在所希望的衬底位置上。本专利技术的实施例包括一个适合于高加速度和高速度而具有相当低的质量和因此产生较低热量的驱动器组件和支架结构。附图简述现在仅作为例子参照示意的附图来描述本专利技术的实施例，附图中相应的标号表示相应的部件，其中附图说明图1表示按照本专利技术的一个实施例的平版印刷设备；图2示意表示按照本专利技术的一个实施例的平版印刷设备；图3表示按照本专利技术的一个实施例的控制系统的控制图；以及图4示意表示按照本专利技术的一个实施例的一种图案支架。详细描述图1按照本专利技术的一个实施例示意表示一种平版印刷设备。该设备包括一个被配置成调节一辐射光束B(如紫外辐射)的照射系统(照射器)IL和一个支承结构(如掩模台)MT，后者的构造能支承一图案形成装置(如掩模)MA并连接在第一安置装置PM上，定位装置PM的构型能按照某种参数而精确地定位该图案形成装置。该设备还包括一个衬底台(如晶片台)WT，被配置成保持一衬底(如抗涂敷晶片)W并连接在第二安置装置PW上，后者的构型能按照某些参数而精确地定位该衬底。该设备还包括一个投射系统(如折射投射透镜系统)PS，被配置成将由图案形成装置MA给予辐射光束B的图案投射到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个模具)上。该照射系统可以包括各种类型的光学部件，如折射的、反射的、磁性的、电磁的、静电的或其它类型的光学部件或其任何组合，以用于指引、成形或控制辐射。该支承结构支承(即承载)该图案形成装置的重量。其保持该图案形成装置的方式取决于该图案形成装置的取向、该平版印刷设备的设计及其它条件，如该图案形成装置是否保持在真空环境中。该支承结构可以使用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持该图案形成装置。该支承结构例如可以是一框架或平台，按照需要该结构可以固定或可以移动。该支承结构可以保证该图案形成装置处于一所要位置，例如相对于该投射系统的所要位置。此处使用的术语“刻线板”或“掩模”可以看做是更一般的术语“图案形成装置”的同义词。此处使用的术语“图案形成装置”应当广泛地解释为指能够用于传递一股在其截面中带有图案如用以在衬底的目标部分中产生图案的辐射光束的任何装置。应当注意到，传递给辐射光束的图案可以并不精确地对应于衬底目标部分中所希望的图案，例如，如果该图案包括移相特点或所谓辅助特点的话。通常，传递给辐射光束的图案将对应于该目标部分中产生的一种器件如集成电路中的一个特定的功能层。该图案形成装置可以是透射的或反射的。图案形成装置的例子包括掩模、可编程序的反射镜阵列和可编程序的LCD板。掩模在平版印刷术中是众所周知的，并包括如二元式、交替移相式和衰变移相式及各种混合式掩模类型。可编程序的反射镜阵列的一个例子利用一种小反射镜的矩阵配置，每个小反射镜可以单个地倾斜，从而沿不同方向反射一股入射的辐射光束。这些倾斜的反射镜传递由该反射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平版印刷设备，包括：（ａ）一个被配置来调节一辐射光束的照射系统；（ｂ）一个被构造来支承一图案形成装置的图案支架，该图案形成装置能传递具有其截面图案的辐射光束，以形成一构成图案的辐射光束该图案支架被一第一驱动器组件可移动地 支承，该第一驱动器组件包括一个长行程驱动器，后者被配置来相对于一固定的参考点定位该图案形成装置；（ｃ）一个被构造来保持一衬底的衬底台，该衬底台由一第二驱动器组件可移动地支承，该第二驱动器组件包括一个被配置来相对于该固定的参考点定位该 衬底的长行程驱动器和短行程驱动器；（ｄ）一个投射系统，被配置来将构造图案的辐射光束投射到该衬底的目标部分上；以及（ｅ）一个控制系统；包括：（ｉ）一个测定系统，被配置来测定所述图案构成装置的实际位置；以及（ｉｉ ）按操作关系连接在所述测定系统、所述第一驱动器组件和所述第二驱动器组件上的控制电路，该控制电路被配置来：定位所述图案形成装置，以获得一个所希望的图案位置；通过比较所述所希望的图案位置和所述图案形成装置的所述实际位置来测定一个 图案定位误差；测定一个所希望的衬底位置来基本上补偿所述图案定位误差；以及将所述衬底定位在所述所希望的衬底位置上。...

【技术特征摘要】
US 2004-10-12 10/9613911.一种平版印刷设备，包括(a)一个被配置来调节一辐射光束的照射系统；(b)一个被构造来支承一图案形成装置的图案支架，该图案形成装置能传递具有其截面图案的辐射光束，以形成一构成图案的辐射光束该图案支架被一第一驱动器组件可移动地支承，该第一驱动器组件包括一个长行程驱动器，后者被配置来相对于一固定的参考点定位该图案形成装置；(c)一个被构造来保持一衬底的衬底台，该衬底台由一第二驱动器组件可移动地支承，该第二驱动器组件包括一个被配置来相对于该固定的参考点定位该衬底的长行程驱动器和短行程驱动器；(d)一个投射系统，被配置来将构造图案的辐射光束投射到该衬底的目标部分上；以及(e)一个控制系统；包括(i)一个测定系统，被配置来测定所述图案构成装置的实际位置；以及(ii)按操作关系连接在所述测定系统、所述第一驱动器组件和所述第二驱动器组件上的控制电路，该控制电路被配置来定位所述图案形成装置，以获得一个所希望的图案位置；通过比较所述所希望的图案位置和所述图案形成装置的所述实际位置来测定一个图案定位误差；测定一个所希望的衬底位置来基本上补偿所述图案定位误差；以及将所述衬底定位在所述所希望的衬底位置上。2.权利要求1的平版印刷设备，其特征在于，在操作期间该衬底和图案形成装置相对于该照射系统移动，其中该控制系统还包括一个被配置来通过所述实际位置对时间的两次求导来确定一图案加速度误差的加速度误差电路；一个滤质器，被配置来利用所述衬底台的质量特性来过滤所述图案的加速度误差，以便对所述衬底台提供一个对应于所述图案加速度误差的补偿力。3.权利要求2的平版印刷设备，其特征在于，该控制系统还包括一个时间延迟过滤器，后者被配置来补偿在根据所述定位误差确定所述图案加速度误差时在加速度误差电路中出现的时间延迟。4.权利要求2的平版印刷设备，其特征在于，该控制系统还包括一个预测电路，后者被配置来根据一早先的定位误差来产生一未来的定位误差信号并将所述未来的定位误差信号传递给所述控制电路，从而基本上补偿所述定位误差.5.权利要求1的平版印刷设备，其特征在于，该图案支架包括一个短行程驱动器，被配置来定位该图案形成装置而使其能够聚集该图案并相对于该辐射光束而使该图案倾斜.6.权利要求1的平版印刷设备，其特征在于，该测定系统是一个干涉计系统.7.权利要求1的平版印刷设备，其特征在于，该测定系统是一个编码器系统.8.一种平版印刷设备，包括(a)一个照射系统，被配置来调节一个辐射光束；(b)一个图案支架，被构造来支承一图案形成装置，该图案形成装置能传递具有其截面图案的辐射光束，以形成一构成图案的辐射光束该图案支架被一第一驱动器组件可移动地支承，该第一驱动器组件包括一个长行程驱动器和一个短行程驱动器，它们被配置来相对于一固定的参考点定位该图案形成装置；(c)一个被配置来保持一衬底的衬底台，该衬底台被一第二驱动器组件可移动地支承，该第二驱动器组件包括一个被配置来相对于固定的参考点定位该衬底；(d)一个投射系统，被配置来将构造图...

【专利技术属性】
技术研发人员：HHM科西，H布特勒，RC坤斯特，HK范德肖特，YKM德沃斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]