光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件技术

衬底处理设备，包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，以使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。在某些实施例中，从卷提供衬底的长段，但可选择地可以提供一串分立的薄片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及包括光刻设备的衬底处理设备和器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是把希望的图案施加衬底目标部分(例如工件、物体、显示器等)上的机器。光刻设备可以用在例如集成电路(IC)、平板显示器和其它包括精细结构的其它器件的制造中。在传统的光刻设备中，可以使用构图装置以产生与IC(或其它器件)的单个层相应的电路图案，该构图装置指掩模或中间掩模版，并且这个图案可以成像到具有辐射敏感材料(例如光刻胶)层的衬底(例如硅晶片或玻璃片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个管芯或几个管芯)上。替代掩模，构图装置可以包括可产生电路图案的一排单独可控的元件。使用这种阵列的光刻系统通常描述为无掩模系统。通常，单个衬底会包含一套连续曝光的相邻目标部分。已知的光刻装置包括步进器，在其中通过在一次把整个图案曝光到目标部分上辐照每个目标部分，和扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上用束扫描图案来辐照每个目标部分，而同时与该方向平行或反平行地扫描衬底。在很多种器件的生产中，批处理衬底是已知的。例如，在平板显示器(FPD)的制造中，使用基于掩模的曝光工具(即包括固定的、不可编程的构图装置的光刻工具)以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底处理设备，包括：　　　　光刻设备，该光刻设备包括：　　　　用于提供辐射投影束的照射系统；　　　　用于给投影束的截面赋予图案以形成已构图束的单独可控元件阵列；和　　　　用于把已构图束投影到衬底目标部分上的投影系统；　　　　设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置；和　　　　设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。

【技术特征摘要】
US 2004-12-22 11/0189301.一种衬底处理设备，包括光刻设备，该光刻设备包括用于提供辐射投影束的照射系统；用于给投影束的截面赋予图案以形成已构图束的单独可控元件阵列；和用于把已构图束投影到衬底目标部分上的投影系统；设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置；和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。2.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底传送系统设置成以不间断方式从衬底供应装置传送衬底的每个输出连续段并经过投影系统。3.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底供应装置包括衬底卷，和设置成从卷输出衬底的每个连续段的衬底供应装置。4.如权利要求3所述的衬底处理装置，其中衬底卷包括一层设置在衬底的相邻层之间的分离材料。5.如权利要求4所述的衬底处理装置，进一步包括在输出衬底传送经过投影系统前，用于把分离材料层从输出衬底分离的分离系统。6.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底供应装置包括卷轴，衬底的至少一个连续段缠绕在卷轴上，衬底供应装置设置成从卷轴输出每个连续段。7.如权利要求6所述的衬底处理装置，其中衬底是玻璃衬底。8.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底的每个连续段具有至少为1的长宽比。9.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底的每个连续段具有基本均匀的宽度和至少五倍于宽度的长度。10.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底供应装置设置成输出衬底的多个单独连续段。11.如权利要求10所述的衬底处理装置，其中衬底传送系统设置成从衬底供应装置传送衬底的多个单独连续段并成串地经过投影系统。12.如权利要求11所述的衬底处理装置，其中所述串是连续串。13.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中光刻设备进一步包括设置成检测在每个衬底连续段上的标记的检测系统。14.如权利要求13所述的衬底处理装置，其中检测系统设置成检测至少两行沿着衬底的每个连续段延伸的对准标记。15.如权利要求13所述的衬底处理装置，其中光刻设备进一步包括设置成提供控制信号给可控元件阵列的控制器，该控制器设置成从检测系统接收与检测对准标记对应的检测信号以及根据检测信号确定控制信号。16.如权利要求13所述的衬底处理装置，进一步包括设置成从检测系统接收与检测对准标记相应的检测信号和根据检测信号控制衬底传送系统的控制器。17.如权利要求16所述的衬底处理装置，其中控制器设置成控制衬底传送系统，以根据检测信号调节输出的衬底连续段传送经过投影系统的速度。18.如权利要求1所述的衬底处理装置，进一步包括设置成控制光刻设备和衬底传送系统的控制系统，使得当衬底的连续段经过投影系统时，已构图束投影到衬底的每个连续段上。19.如权利要求1所述的衬底处理装置，进一步包括当衬底的连续段曝露于来自投影系统的已构图束时，设置成支撑衬底的每个连续段的至少一部分的衬底支撑装置。20.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中衬底传送系统包括至少一个设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：J洛夫，BAJ勒蒂克休伊斯，P斯皮特，J弗卢伊特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]