光刻装置及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光刻装置，包括用于提供辐射投射光束的照射系统、用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于赋予投射光束带图案的横截面、不漏颗粒的储存容器，其限定用于储存构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以使输送容器通过其与储存容器之间的可闭合通道在输送容器与光刻装置之间交换构图结构、用于保持基底的基底台、用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统。此外，本发明专利技术涉及一种使用这种装置的方法。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般涉及一种光刻投影装置，更具体地涉及一种包括污染物控制结构的光刻投影装置。
技术介绍
一般来说，光刻装置包括用于提供辐射投射光束的照射系统、用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于给投射光束的截面赋予图案，用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，不漏颗粒的贮藏容器，限定用于容纳构图装置的贮藏空间，其中将贮藏容器设置为与输送容器耦合，用以通过输送容器和贮藏容器之间的可闭合通道交换构图装置。光刻装置是一种将所需图案作用于基底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在那种情况下，构图装置，如掩模或中间掩模版，可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂覆辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片)的目标部分上(例如包括部分，一个或者多个管芯)。一般地，单个基底将包含依次曝光的相邻目标部分的整个网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将全部图案一次曝光在目标部分上而辐射每一目标部分，还包括所谓的扫描器，其中通过投射光束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：　　　　用于提供辐射投射光束的照射系统；　　　　用于支撑构图结构的支撑结构，所述构图结构用于给投射光束的横截面赋予图案；　　　　用于保持基底的基底台；　　　　用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，　　　　不漏颗粒的储存容器，其限定用于容纳至少一个构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以通过输送容器和储存容器之间的可闭合通道交换构图结构；以及　　　　真空室，用于通过储存容器或从储存容器接收构图装置。

【技术特征摘要】
US 2003-9-29 10/6715881.一种光刻装置，包括用于提供辐射投射光束的照射系统；用于支撑构图结构的支撑结构，所述构图结构用于给投射光束的横截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，不漏颗粒的储存容器，其限定用于容纳至少一个构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以通过输送容器和储存容器之间的可闭合通道交换构图结构；以及真空室，用于通过储存容器或从储存容器接收构图装置。2.根据权利要求1的光刻装置，其中输送容器是不漏颗粒的。3.根据权利要求1的光刻装置，其中光刻装置进一步包括从真空室抽空气体的真空泵。4.根据权利要求1的光刻装置，其中光刻装置进一步包括通过可真空闭合的通道与上述真空室流体连通的另一个真空室，和通过该通道输送构图结构的输送机构。5.根据权利要求1的光刻装置，其中将储存容器构造和设置成与输送容器耦合，从而使储存容器的第一闸板的一部分和输送容器的第二闸板的一部分耦合，以便使其同时移动到所述储存空间中。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：BLWM范德文，EL哈姆，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]