用于操纵和传送计量光束的器件和方法技术

一种光刻投影装置，配有一种用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束的器件。该器件包括第一和第二光楔，其中第二光楔和第一光楔具有相对于彼此的相对位置。至少一部分计量光束沿入射光轴在第一光楔的第一主要表面处进入该器件，穿过第一和第二光楔，并在第二光楔的第二主要表面处射出。第一和第二光楔安排为通过改变第一和第二光楔的相对位置使至少一部分计量光束相对于入射光轴旋转如／或平移。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及如权利要求1前序部分限定的一种光刻投影装置。本专利技术还涉及如权利要求12前序部分所述的一种用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束的器件。另外，本专利技术涉及如权利要求14前序部分提出的一种器件制造方法。
技术介绍
本专利技术发现一种光刻投影装置领域中的优选应用，该光刻投影装置包括用于提供辐射投射光束的辐射系统，用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图，用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统。这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特定功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括■掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影装置（１），其特征在于，所述装置包括用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束（ＭＢ）的器件（１００），所述器件（１００）包括第一光楔（２）和第二光楔（３），所述第二光楔（３）和所述第一光楔（２）具有相对于彼此的相对位置，所述至少一部分计量光束（ＭＢ）沿入射光轴（ＯＡ）在所述第一光楔（２）的第一主要表面（２ａ）处进入所述器件（１００），穿过所述第一（２）和第二光楔（３），并在所述第二光楔（３）的第二主要表面（３ａ）处射出，第一和第二光楔（２，３）设置为通过改变所述第一和所述第二光楔（２，３）的所述相对位置使所述至少一部分计量光束（ＭＢ）相对于所述入射光轴（ＯＡ）旋转和／或平移。

【技术特征摘要】
EP 2003-3-6 03075659.71.一种光刻投影装置(1)，其特征在于，所述装置包括用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束(MB)的器件(100)，所述器件(100)包括第一光楔(2)和第二光楔(3)，所述第二光楔(3)和所述第一光楔(2)具有相对于彼此的相对位置，所述至少一部分计量光束(MB)沿入射光轴(OA)在所述第一光楔(2)的第一主要表面(2a)处进入所述器件(100)，穿过所述第一(2)和第二光楔(3)，并在所述第二光楔(3)的第二主要表面(3a)处射出，第一和第二光楔(2，3)设置为通过改变所述第一和所述第二光楔(2，3)的所述相对位置使所述至少一部分计量光束(MB)相对于所述入射光轴(OA)旋转和/或平移。2.根据权利要求1的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100)设置为通过绕所述光轴(OA)将所述第一和第二光楔(2，3)中至少一个旋转一个轴角(β)来完成第一操作。3.根据权利要求1或2的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100)设置为通过沿所述光轴(OA)移动所述第一和第二光楔(2，3)中至少一个来改变它们之间的距离(D)从而完成第二操作。4.根据权利要求1至3中任一项的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100)设置为完成第三操作，其中所述第一和第二光楔(2，3)具有带固定轴角(β)和固定距离(D)的固定的相对位置，所述第一和第二光楔(2，3)作为一个整体绕所述光轴(OA)旋转。5.根据权利要求1至4中任一项的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100)设置为完成第四操作，其中所述第一和第二光楔(2，3)具有带固定轴角(β)和固定距离(D)的固定的相对位置，所述第一和第二光楔(2，3)作为一个整体绕垂直于所述光轴(OA)的旋转轴(RA)旋转。6.一种光刻投影装置(1)，其特征在于，所述装置包括用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束(MB)的器件(100’)，所述器件(100’)包括第一光楔(2)和第二光楔(3)，所述第二光楔(3)的第一和第二主要表面(3a，3b)之一配有反射涂层，所述第二光楔(3)和所述第一光楔(2)具有相对于彼此的相对位置，所述至少一部分计量光束(MB)沿入射光轴(OA)在所述第一光楔(2)的第一主要表面(2a)处进入所述器件(100’)，穿过所述第一光楔(2)，并在所述第二光楔(3)的所述第一和第二主要表面(3a，3b)之一处反射，所述第一和第二光楔(2，3)设置为通过改变所述第一和所述第二光楔(2，3)的所述相对位置使所述至少一部分计量光束(MB)相对于所述入射光轴(OA)旋转和/或平移。7.根据权利要求6的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100’)设置为使所述第一和第二光楔(2，3)中至少一个绕所述光轴(OA)旋转一个轴角(β)。8.根据权利要求6的光刻投影装置，其特征在于所述器件(100’)设置为使所述第二光楔(3)绕基本上与所述第二光楔(3)的所述第一主要表面(3a)垂直的旋转轴(RA3)旋转一个角度(β)。9.根据权利要求6至8中任一项的光刻投影装置，其特征在于，所述器件(100’)设置为沿所述光轴(OA)移动所述第一和第二光楔(2，3)中至少一个来改变它们之间的距离(D)。10.根据权利要求6至9中任一项的光刻投影装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：EAF范德帕斯奇，MHM比姆斯，EJM尤森，EJJ克里滕特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]