全氟聚醚液体薄膜和使用全氟聚醚液体清洁掩模的方法技术

一种用于光刻装置的构图装置，例如掩模，包括坯料层、在坯料层表面上的不透明材料层的带图案层；和覆盖所述表面的全氟聚醚液体薄膜。一种构图装置的制造方法包括提供具有坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层的构图装置；在所述表面涂覆覆盖该表面的全氟聚醚液体以形成全氟聚醚液体层；和去除至少部分全氟聚醚液体层。一种用于光刻投影装置的构图装置的清洁方法，该构图装置包括坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层，该方法包括在坯料层表面涂覆覆盖表面的全氟聚醚液体以形成全氟聚醚液体层；和去除至少部分全氟聚醚液体层。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于光刻投影装置的掩模的薄膜和清洁掩模的方法。
技术介绍
这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束的截面赋予图案的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致。本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特殊功能层相对应。这样的构图装置的一个例子是掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够它能够保证掩模被保持在入射光束中的理想位置，并且如果需要该台会相对光束移动。构图装置的另一例子是可编程反射镜阵列。这种阵列的一个例子是具有一粘弹性控制层和一反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置的基本原理是(例如)反射表面的已寻址区域将入射光反射为衍射光，而未寻址区域将入射光反射为为非衍射光。用一个适当的滤光器，从反射的光束中过滤所述非衍射光，只保留衍射光；按照这种方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻投影装置的构图装置，包括：由石英、玻璃、ＭｇＦ或ＣａＦ↓［２］形成的坯料层；在坯料层表面上的不透明材料层的带图案层；和在坯料层表面上覆盖该表面的全氟聚醚液体层。

【技术特征摘要】
US 2003-1-15 10/3422401.一种用于光刻投影装置的构图装置，包括由石英、玻璃、MgF或CaF2形成的坯料层；在坯料层表面上的不透明材料层的带图案层；和在坯料层表面上覆盖该表面的全氟聚醚液体层。2.根据权利要求1的构图装置，其中，坯料层折射率和全氟聚醚液体层的折射率之间的差值小于或等于0.21。3.根据权利要求1的构图装置，其中，坯料层包括一图案，该图案对应于不透明材料层中的图案。4.根据权利要求1的构图装置，其中，全氟聚醚液体层的厚度近似等于在构图装置上成像的辐射的焦距。5.一种制造用于光刻装置的构图装置的方法，该方法包括提供具有坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层的构图装置；在坯料层表面涂覆覆盖该表面的全氟聚醚液体以形成全氟聚醚液体层；和去除至少部分全氟聚醚液体层。6.根据权利要求5的方法，其中，坯料层折射率和全氟聚醚液体层的折射率之间的差值小于或等于0.21。7.根据权利要求5的方法，其中，坯料层包括一图案，该图案对应于不透明材料层中的图案。8.根据权利要求5的方法，其中，去除至少部分全氟聚醚液体层包括去除部分全氟聚醚液体层从而将全氟聚醚液体层的厚度调整为近似等于被成像在构图装置上的辐射的焦距...

【专利技术属性】
技术研发人员：K库明斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]