光刻装置及设备制造方法制造方法及图纸

技术编号:3208732 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提出光刻装置及设备制造方法。采用一传感器4检测自一反射器3所辐射的发光射线5,发光射线5是由入射至所述反射器3的一表面3a上的所述辐射光束2所引起的状态改变的结果。特定波长的发光射线5的强度可用于确定辐射光束2的强度。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影装置,该装置包括一辐射系统,用于提供辐射投影束;一支撑结构,用于支撑图案形成部件,所述图案形成部件根据所希望的图案使所述投影束形成图案;一基片平台,用于保持基片;一投影系统,用于将已形成图案的投影束投影到基片的靶部上;一传感器,用于检测由所述装置的一元件上至少一个表面区域所辐射的发光射线,所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个穿过所述装置;在所述区域中,根据检测过的发光射线测定所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个的强度的部件。
技术介绍
这里所用的术语“图案形成部件”可广泛理解为这样的部件,即根据基片的靶部中将要形成的图案,将相应的图案赋予入射的辐射光束的切面;术语“光阀”也可用于该语境中。一般来说,所述图案与靶部中所设立的设备——例如集成电路或其它设备(见下文)——中的特殊功能层一致。这种图案形成部件的实例包括一掩模。光刻中掩模的概念是众所周知的,它包括例如二元型(binary)掩模、交变相移型掩模、衰减相移型掩模,还有各种混合型掩模。根据掩模上的图案,放置在辐射光束中的该掩模促使投射到所述掩模上的辐射光束有选择的透射(就透射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影装置,包括:一用于提供辐射投影束的辐射系统;一用于支撑图案形成部件的支撑结构,所述图案形成部件根据所希望的图案使投影束形成图案;一用于保持一基片的基片平台;一用于将已形成图案的投影束投射于所述基片 的一靶部上的投影系统,一用于检测发光射线的传感器,该发光射线由所述装置的一元件上的至少一个表面区域所辐射,所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个穿过所述装置,在所述区域中,根据检测过的发光射线测定所述未形成图案的 投影束和已形成图案的投影束中的一个的强度的部件, 其特征在于:所述传感器...

【技术特征摘要】
EP 2002-8-30 02256037.91.一种光刻投影装置,包括一用于提供辐射投影束的辐射系统;一用于支撑图案形成部件的支撑结构,所述图案形成部件根据所希望的图案使投影束形成图案;一用于保持一基片的基片平台;一用于将已形成图案的投影束投射于所述基片的一靶部上的投影系统,一用于检测发光射线的传感器,该发光射线由所述装置的一元件上的至少一个表面区域所辐射,所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个穿过所述装置,在所述区域中,根据检测过的发光射线测定所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个的强度的部件,其特征在于所述传感器检测来自于所述元件的若干表面区域的所述发光射线,所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束入射于所述元件上;在每个所述区域中用于测定所述光束强度的所述部件测定所述投影束和已形成图案的光束中的一个的强度。2.根据权利要求1所述的一种光刻投影装置,其特征在于所述元件为一反射器,所述传感器不在所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个的入射路径或反射路径中。3.根据前面任何一个权利要求所述的一种光刻投影装置,其特征在于所述元件为一形成分布式Bragg反射器的多层堆。4.根据前面任何一个权利要求所述的一种光刻投影装置,其特征在于所述元件为设置在所述投影系统和辐射系统其中一个内的一反射器。5.根据前面任何一个权利要求所述的一种光刻投影装置,其特征在于所述元件为第一反射器,所述未形成图案的投影束入射至该第一反射器上。6.根据前面任...

【专利技术属性】
技术研发人员:MMTM迪里奇斯
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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