【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻投影装置，包括辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，该图案形成机构可根据希望的图案使投影光束具有所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，可将带图案的光束投射到基片的目标部分。
技术介绍
本文使用的术语“图案形成机构”应广义地理解为可用来使入射光束的断面形成图案的装置，该图案对应于在基片目标部分产生的图案；在本文中也可以使用“光阀”这一术语。一般来说，所述图案将对应于在目标部分制造的器件，如集成电路或其它器件(参见下文)，的特定功能层。这种图案形成机构的示例包括掩模，掩模的概念在光刻法中为大家所熟知，掩模类型包括，如双体、交变相移和衰减相移，以及各种混合的掩模类型。将这样的掩模放置在光束中会使照射到掩模上的光束根据掩模图案产生选择性透射(在透射式掩模的情况下)或选择性反射(在反射式掩模的情况下)。对于掩模来说，支承结构通常是掩模台，可确保掩模固定在入射光束所要求的位置上，而且还可以按要求相对光束移动。可编程反射镜阵列，这种装置的一个示例是带有粘弹性控制层和反射面的可编址矩阵表面。这种装置的基本原理是(举例来说)反...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻投影装置，包括辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，所述图案形成机构根据希望的图案使所述投影光束具有所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，可将带图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于，还包括至少一个保持结构，其包括至少一个保持带小突起的板的柔性件，所述带小突起的板用于保持所述装置的可移动单位体。2.根据权利要求1所述的光刻投影装置，其特征在于，所述至少一个柔性件包括薄膜。3.根据权利要求1或2所述的光刻投影装置，其特征在于，所述至少一个柔性件包括一对平行片。4.根据权利要求3所述的光刻投影装置，其特征在于，所述各片沿其长度受到支承。5.根据前面权利要求中任一项所述的光刻投影装置，其特征在于，所述带小突起的板与所述至少一个柔性件相比是刚性的。6.根据前面权利要求中任一项所述的光刻投影装置，其特征在于，所述装置还包括多个限定单位体位置的支撑件，所述单位体与其平面正交。7.根据前面权利要求中任一项所述的光刻投影装置，其特征在于，所述支撑件设在贝塞耳点支撑所述柔性件。8.根据权利要求6或7所述的光刻投影装置，其特征在于，所述装置包括3个固定支撑件。9.根据权利要求6，7，8中任一项所述的光刻投影装置，其特征在于，至少一个所...
【专利技术属性】
技术研发人员：N·J·吉尔森，S·N·L·当德斯，M·H·A·里德斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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