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一种光刻投影装置，包括：　　　　辐射系统，可提供投影光束；　　　　支承结构，用来支承图案形成机构，所述图案形成机构根据希望的图案使所述投影光束具有所需要的图案；　　　　基片台，用来固定基片；和　　　　投影系统，可将带图案的光束投射到基片的目...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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