【技术实现步骤摘要】
本专利技术主要是为大规模集成电路光刻机提供一种扫描式投影光刻机物镜。国外生产扫描式投影光刻机最主要的厂商是美国PeKin Elmer公司，该公司生产的100型、200型、300型扫描式投影光刻机中的物镜，都是由一块主镜和一块付镜组成的，该物镜可用的环带视场都比较窄，一般为1～2毫米。最近生产的500型扫描式投影光刻机物镜，包括八片二组元，其中4块校正镜，物镜机构复杂，而它的环带视场可用的狭缝宽度仅为4毫米。本专利技术的目的是提供一种环带视场可用狭缝宽度达10毫米的扫描式投影光刻机物镜，提高生产效率，同时光路结构应尽量简单以降低物镜系统成本，并扩展波段使用范围。本专利技术的技术方案是，在由球面主反射镜和球面付反射镜的物、象光路上仅增设-球壳形校正透镜来达到上述目的。图一是本专利技术物镜的光路示意图。图中1是球面主反射镜，曲率半径为r1;2是球面付反射镜，曲率半径为r2;3是球壳形校正透镜，r3和S分别为其曲率半径和厚度;d1为镜1与镜2之间的距离，d2为镜1到镜3之间的距离，4是物镜系统环带视场的狭缝宽度△H。物镜系统各镜面满足下列关系r2＝(0.44～0.53)r1r3＝(0.25～0.39)r1S＝(0.02～0.03)r1d1＝(0.5～0.54)r1d2＝(0.6～0.7)r1球壳形校正透镜是由透紫外光的石英制成的。经实验该物镜达到下列指标放大倍率1倍，环带视场狭缝宽△H～10mm，物镜适用于3600 ～4400 ，还可在远紫外2000 波段使用。
【技术保护点】
一种用于扫描式投影光刻机的物镜，含有球面主反射镜（１）、球面付反射镜（２）、校正透镜（３），其特征在于所说的校正透镜为一球壳形透镜，所说的球面主反射镜、球面付反射镜与球壳形透镜满足下列关系：ｒ↓［２］＝（０．４４～０．５３）ｒ↓［１］ｒ ↓［３］＝（０．２６～０．３９）ｒ↓［１］ｓ＝（０．０２～０．０３）ｒ↓［１］ｄ↓［１］＝（０．５～０．５４）ｒ↓［１］ｄ↓［２］＝（０．６～０．７）ｒ↓［１］其中ｒ↓［１］、ｒ↓［２］分别为球面主反射镜和球面付反射镜的曲率 半径，ｒ↓［３］，和Ｓ分别为球壳校正透镜的曲率半径和厚度，ｄ↓［１］为球面主反射镜到球面付反射镜之间的距离，ｄ↓［２］为球面主反射镜到球壳校正透镜的距离。
【技术特征摘要】
1.一种用于扫描式投影光刻机的物镜，含有球面主反射镜(1)、球面付反射镜(2)、校正透镜(3)，其特征在于所说的校正透镜为一球壳形透镜，所说的球面主反射镜、球面付反射镜与球壳形透镜满足下列关系r2=(0.44～0.53)r1r3=(0.26～0.39)r1s=(0.02～0.03)r1d1=(0.5～0.54)r1d...
【专利技术属性】
技术研发人员：王之江，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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