【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学抛光领域,具体为用于光学数据处理中的一种光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法。
技术介绍
1、在现代光学加工中,数控子孔径抛光是实现纳米级高精度面形误差的重要加工手段,其基本原理是根据面形误差数据来使用远小于工件直径的磨头通过计算机控制其在工件上各驻留点的驻留时间实现面形各点材料的定量去除。而对于光学加工中反卷积算法工具伸出边界外的初始值获取,或面形误差傅里叶频段分析中边缘振铃效应的减弱,面形延拓都是一种关键的算法技术。现有广泛采用的近邻式延拓法仅能保证延拓面形数据的0阶导连续,而高阶连续性较差的缺陷不足以满足现有光学加工数据分析手段需求;基于傅里叶变换的延拓方法虽然能缓解高阶导连续问题,但极为耗时的计算时间难以被实际应用。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是克服现有光学曲面延拓算法中难以高效实现多阶导连续下面形延拓,提出一种适用于任意形状的光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法,该方法通过二值化操作提取局部有效数据点,结合边缘约束及单位圆定义下的泽尼克拟合
...【技术保护点】
1.一种任意形状光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法,其特征在于,所述S7,具体步骤如下:
3.根据权利要求1所述的光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法,其特征在于,所述S8,具体步骤如下:
【技术特征摘要】
1.一种任意形状光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的光学表面误差分布数据快速泽尼克延拓方...
【专利技术属性】
技术研发人员:万嵩林,李瀚捷,魏朝阳,邵建达,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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