本发明专利技术是一种投影光刻机中的硅片台微旋转机构，它包括拉簧、硅片台、止推轴承、基座、调节螺栓、螺纹副；调节螺栓被固定在位于基座的螺纹副上，调节螺栓的前端为球型，拉簧的左端套在硅片台上，拉簧的右端挂在基座上，硅片台始终与调节螺栓保持接触。本发明专利技术能够对投影光刻机中的硅片台进行精确的角度调整，以满足光刻机的套刻精度要求。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种投影光刻机的硅片台微旋转机构。
技术介绍
投影光刻机的硅片台微旋转机构所用螺纹副为一般螺纹副，精度相对较低，当采 用细牙差动螺纹副可提高硅片台旋转定位精度。以前投影光刻机的硅片台拥有的微旋转机构，校正硅片台的角度误差精度不够 高，直接影响投影光刻机的套刻精度。所以这使高精度硅片台微旋转机构显得十分必要，且 该机构可以保证光刻机长期稳定工作。
技术实现思路
为了克服因角度误差对光刻机所能实现的套刻精度的不良影响，本专利技术的目的是 提供一种投影光刻机中的硅片台微旋转机构，使得现场高精度硅片台微旋转调整成为可 能，提高光刻机的套刻精度，保证了投影光刻机长期稳定可靠的工作。为达到上述目的，本专利技术提供投影光刻机中的硅片台微旋转机构解决技术解决问 题所采用的技术方案包括拉簧、硅片台、基座、调节螺栓和螺纹副；硅片台位于止推轴承 上，调节螺栓被固定在基座的螺纹副内，拉簧的左端套在硅片台的弹簧拉杆上，拉簧的右端 挂在基座上，调节螺栓的前端顶在硅片台的手轮顶杆上。本专利技术的优点是，本专利技术能够对投影光刻机中的硅片台进行精确的角度调整，当 投影光刻机的硅片台存在角度误差时，本专利技术通过调整基座上的调节螺栓，使调节螺栓带 动硅片台做微旋转运动，同时拉簧又使调节螺栓顶在硅片台上，从而硅片台保持与调节螺 栓的接触，消除硅片台与调节螺栓之间的间隙，增加预紧力。校正硅片台的角度误差，保证 了投影光刻机长期稳定可靠的工作，提高了光刻机的套刻精度；并且本专利技术具有机构简单、 安装调整方便、经济、安全、可靠等优点。附图说明图1为本专利技术的系统原理图；附图标记1、拉簧；2、硅片台；3、止推轴承；4、基座；5、调节螺栓；6、螺纹副。具体实施例方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照 附图，对本专利技术进一步详细说明。如图1所示，本专利技术由拉簧1、硅片台2、止推轴承3、基座4、调节螺栓5、螺纹副6 组成。此硅片台2的微旋转机构被安装在止推轴承3上。调节螺栓5被固定在基座4的螺 纹副6内，调节螺栓2的前端为球形；拉簧1的左端套在硅片台2上，拉簧1的右端挂在基 座4上，调节螺栓5的前端顶在硅片台2的手轮顶杆上。在光刻机曝光过程中，当硅片台2 存在角度误差时，可旋转调节螺栓5向前或向后位移，使硅片台2做微旋转移动，同时拉簧1 使硅片台2保持与调节螺栓5的接触。最终使得硅片台2做不同角度的旋转，克服了因硅 片台2的角度误差产生对投影光刻机套刻的影响，提高了投影光刻机套刻的质量。本专利技术中的硅片台2与基座4之间为拉簧1，调节螺栓5的前端为球形，拉簧1可 以保证硅片台2的手轮顶杆始终与调节螺栓5前端的球形的接触，这样调节螺栓5向前或 向后位移都能微调硅片台2的转角。螺纹副6将调节螺栓5的旋转运动变为向前或向后的微位移。所述的螺纹副6为 细牙差动螺纹副。调节螺栓5的前端为球形并始终与硅片台2保持点接触，保证硅片台2与调节螺 栓5之间没有间隙，增加预紧力，提高了硅片台2的转角精度。本专利技术能够对投影光刻机中的硅片台进行高精度微旋转调整，以达到校正硅片台 的转角误差要求，克服了因硅片台旋转误差对投影光刻机套刻的影响，提高了套刻质量。上述实施例仅为说明本专利技术的原理及其功效，而非用于限制本专利技术，熟知本领域 的技术人员均可在不违背本专利技术的精神及范畴下，对上述实施例进行修改或者等同替换， 其均应涵盖在本专利技术的权利要求范围当中。权利要求1.一种投影光刻机中的硅片台微旋转机构，其特征在于包括拉簧(1)、硅片台O)、基 座G)、调节螺栓(5)和螺纹副(6)；硅片台⑵位于止推轴承⑶上，调节螺栓(5)被固定 在基座(4)的螺纹副(6)内，拉簧(1)的左端套在硅片台(2)的弹簧拉杆上，拉簧(1)的右 端挂在基座(4)上，调节螺栓(5)的前端顶在硅片台( 的手轮顶杆上。2.根据权利要求1所述的投影光刻机的硅片台微旋转机构，其特征在于所述的调节 螺栓(5)的前端为球形，调节螺栓( 前端的球形始终保持与硅片台( 的手轮顶杆相接 触。3.根据权利要求1所述的投影光刻机的硅片台微旋转机构，其特征在于所述的螺纹 副(6)为细牙差动螺纹副。全文摘要本专利技术是一种投影光刻机中的硅片台微旋转机构，它包括拉簧、硅片台、止推轴承、基座、调节螺栓、螺纹副；调节螺栓被固定在位于基座的螺纹副上，调节螺栓的前端为球型，拉簧的左端套在硅片台上，拉簧的右端挂在基座上，硅片台始终与调节螺栓保持接触。本专利技术能够对投影光刻机中的硅片台进行精确的角度调整，以满足光刻机的套刻精度要求。文档编号G03F7/20GK102087485SQ20101061375公开日2011年6月8日 申请日期2010年12月30日 优先权日2010年12月30日专利技术者徐文祥, 胡松, 胡淘, 邢薇 申请人:中国科学院光电技术研究所本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种投影光刻机中的硅片台微旋转机构，其特征在于包括：拉簧（１）、硅片台（２）、基座（４）、调节螺栓（５）和螺纹副（６）；硅片台（２）位于止推轴承（３）上，调节螺栓（５）被固定在基座（４）的螺纹副（６）内，拉簧（１）的左端套在硅片台（２）的弹簧拉杆上，拉簧（１）的右端挂在基座（４）上，调节螺栓（５）的前端顶在硅片台（２）的手轮顶杆上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡淘，胡松，邢薇，徐文祥，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：90
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