镭射母版及制造该镭射母版的光刻机制造技术

一种镭射母版，包括镭射母版本体，所述镭射母版本体工作面上有全息图案，全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元，全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元，标识像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律与光柱周期性像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律不同，从而产生局部素描图案光柱体标识。光刻机包括激光器、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜、玻璃光栅片，所述激光器、玻璃光栅片、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜依次呈光学配合排列。本发明专利技术能够实现具有宽幅镭射光柱素描水印定位标识全息图的镭射母版制作。

Laser master plate and photoetching machine for making the laser master plate

A master laser, including laser holographic pattern parent version, the parent version on the working surface of the laser holographic patterns, including a plurality of pixels of light cycle forming periodic gradient beam unit body hologram element, at least part of the pixels in a region unit holographic pattern to identify local pixels sketch pattern column identification unit, identification unit pixel bump law grating depth line bump law and beam periodic unit pixel grating depth line is different, resulting in local pattern sketch column identification. The lithography machine comprises a laser, a multi resolution, the first and second refractive lens refractive lens, micro lens, glass grating, the laser, glass grating sheet, multi resolution, a first refractive lens, second refractive lens, which is arranged with optical micro lens. The invention can realize a laser master edition with a wide laser beam watermark, a watermark positioning mark hologram.

【技术实现步骤摘要】
镭射母版及制造该镭射母版的光刻机
本专利技术涉及一种用于制作光柱渐变形式独特、防伪效果好的宽幅专版防伪全息图的镭射母版及制造该镭射母版的光刻机。
技术介绍
激光防伪技术自面世以来，经过数十年发展，经历了激光模压全息图像防伪标识、改进型激光全息图像防伪技术、加密全息图像防伪技术、激光全息真彩色3D防伪技术、宽幅激光全息点矩阵光刻防伪技术等五次升级换代。虽然宽幅激光全息点矩阵光刻防伪技术制造的宽幅激光镭射光柱全息图在包装材料上应用的初期确实能起到全息防伪作用，但是宽幅激光镭射光柱全息图的光柱渐变形式单一、其防伪效果是依靠高额投资壁垒来防止造假，因此随着相关厂商引进全息镭射大版宽幅机，这一制版技术为被行业某些厂商的掌握及应用后，宽幅激光镭射光柱全息图也就丧失了防伪功能，仅存留装饰包装材料外观效果的作用。从国内当前情况看，在300余家生产激光全息防伪标识的企业中，除少数几个企业能制作技术含量较高的短版高分辩率的3维真彩镭射产品外，一般厂家只能做一些小版的防伪镭射标识，所生产的激光防伪标识质量较低，只能用于一般商品上；对档次较高的商品（如全拼图烟包定位包装纸），国内拥有宽幅的激光全息大版机技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镭射母版，包括镭射母版本体，所述镭射母版本体工作面上有全息图案，所述全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元，其特征在于：所述全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元，所述标识像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律与光柱周期性像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律不同，从而产生局部素描图案光柱体标识；所述局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元与光柱周期性像素点单元的光变角度一致、光柱方向一致、折射位置统一、曝光率不同，因此两者所呈现出来的光栅条纹深浅度也不同。

【技术特征摘要】
1.一种镭射母版，包括镭射母版本体，所述镭射母版本体工作面上有全息图案，所述全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元，其特征在于：所述全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元，所述标识像素点单元光...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡旭楠，李晓笙，
申请(专利权)人：广东东南薄膜科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44